Введение:
Установка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления — это экономичное оборудование для нанесения покрытий методом магнетронного распыления, разработанное нашей компанией самостоятельно; оно характеризуется стандартизацией, модульностью и возможностью индивидуальной настройки. Диаметр магнетронных мишеней составляет 1 дюйм, 2 дюйма и 3 дюйма; клиенты могут выбирать их в зависимости от размера подложки, на которую будет наноситься покрытие. Источник питания — высокомощный постоянного тока (ПТ) на 500 Вт, позволяющий осуществлять нанесение покрытий металлов с высокой энергией распыления. В зависимости от требований эксперимента также можно выбрать другие параметры источников питания постоянного или переменного (ВЧ) тока для реализации процесса нанесения покрытий различных материалов.
Область применения:
Может использоваться для изготовления однослойных или многослойных тонкоплёночных ферроэлектриков, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.