Введение:
Установка для напыления методом магнетронного распыления — это специальный лабораторный прибор для нанесения покрытий, разработанный нашей компанией. Установка может комплектоваться постоянным током (DC) и высокочастотным (RF) источниками питания. Мощность источников питания составляет от 500 Вт до 1000 Вт. По сравнению с традиционным плазменным распылением магнетронное распыление обладает такими преимуществами, как высокая энергия, высокая скорость, высокая скорость осаждения и незначительное повышение температуры образца. Магнетронная мишень оснащена водяным охлаждением промежуточного слоя. Водяной охладитель эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на поверхности мишени, обеспечивая стабильную длительную работу процесса магнетронного напыления. Благодаря компактной конструкции достигнуто оптимальное соотношение между габаритами и производительностью; внешний вид установки эстетичен, а функциональные возможности — всесторонни. Управление всей установкой осуществляется через сенсорный экран и встроенные программы одношагового напыления, что обеспечивает простоту эксплуатации. Данная установка является идеальным решением для подготовки тонких плёнок в лабораторных условиях.
Область применения:
Может использоваться для изготовления однослойных или многослойных тонкоплёночных ферроэлектриков, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.