Полупроводниковый пластинчатый Сilikонкарбидная травильная установка RIE Реактивное ионное травление Плазменная установка для удаления фоторезиста , China Полупроводниковый пластинчатый Сilikонкарбидная травильная установка RIE Реактивное ионное травление Плазменная установка для удаления фоторезиста Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание продукта

Машина для удаления фотосопротивов плазмой RIE

Машина для удаления фотосопротивов плазмой RIE подходит для травления карбида кремния, удаления поверхностных остатков, травления диоксида кремния или нитрида кремния и т.д. Камера подходит для образцов размером 4-8 дюймов

Травление карбида кремния
Очистка поверхности после травления
DESCUM
Жёсткий масочный слой, сухое удаление
Этчинг диоксида кремния или нитрида кремния
Устранение оптического сопротивления между средами
Удаление остатков с поверхности

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier

Характеристики

Источник плазмы			RF
Мощность	ICP	_
Мощность		BIAS	1000W(опция)
Область применения			4~8 дюймов
Количество обрабатываемых срезов			1
Габаритные размеры			850mmx900mmx1850mm
Управление системой			ПЛК
Уровень автоматизации			Руководство