Введение:
Двухцелевой прибор для напыления методом магнетронного распыления — это лабораторный прибор для нанесения покрытий, разработанный нашей компанией и оснащённый двумя позициями для мишени. Оборудование оснащено источником постоянного тока и радиочастотным источником питания. По сравнению с обычным плазменным распылением магнетронное распыление обладает преимуществами высокой энергии и высокой скорости, а также высокой скоростью нанесения покрытия; это типичный метод высокоскоростного низкотемпературного распыления. Магнетронная мишень оснащена промежуточным слоем с водяным охлаждением. Водяной охладитель эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на поверхности мишени, обеспечивая стабильную длительную работу процесса магнетронного напыления. Стадия для образцов в данной модели выполнена по принципу возвратно-поступательного движения и оснащена магнитной муфтой с толкателем с левой стороны, позволяющей перемещать стадию для образцов влево и вправо. Управление всем устройством осуществляется через сенсорный экран, встроенный в него одношаговый режим нанесения покрытия обеспечивает простоту и удобство эксплуатации; это идеальное оборудование для лабораторного получения тонких плёнок.
Область применения:
Может использоваться для изготовления однослойных или многослойных тонкоплёночных ферроэлектриков, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.