Выделять
Введение:
Установка для магнетронного распыления с двумя целями — это лабораторная установка, разработанная нашей компанией. Оборудование может комплектоваться источником постоянного тока (DC) и источником радиочастотного тока (RF) мощностью от 500 Вт до 1000 Вт. По сравнению с обычным плазменным распылением магнетронное распыление обладает преимуществами высокой энергии и скорости, высокой скорости нанесения покрытия и незначительным повышением температуры образца. Это типичный метод высокоскоростного и низкотемпературного распыления. Магнетронная мишень оснащена промежуточным слоем с водяным охлаждением. Водяной охладитель эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на поверхности мишени, обеспечивая стабильную длительную работу процесса магнетронного напыления. Установка выполнена в компактном исполнении, что позволяет достичь оптимального баланса между габаритами и производительностью, а также отличается эстетичным внешним видом и широким функционалом. Управление всей установкой осуществляется через сенсорный экран, встроенный в неё одношаговый режим нанесения покрытия обеспечивает простоту и удобство эксплуатации. Данная установка является идеальным решением для подготовки тонких плёнок в лабораторных условиях.
Область применения: может использоваться для изготовления однослойных или многослойных тонких ферроэлектрических плёнок, проводящих плёнок, сплавных плёнок, полупроводниковых плёнок, керамических плёнок, диэлектрических плёнок, оптических плёнок и др.