Преимущества вакуумной плазмы: сверхнизкие температуры обработки — температура обработки ниже 45 °C, что позволяет удовлетворять различные температурные требования и не оказывать влияния на температуру очищаемых изделий. Многоканальный контроль подачи газа: высокоточная система мониторинга расхода газа использует двух- или многоканальную подачу рабочего газа для равномерной очистки во всех направлениях.
Эффективная обработка: одновременно можно обрабатывать несколько листов/партий материалов; параметры могут быть адаптированы под конкретные материалы и производственную мощность.
Запатентированное программное обеспечение управления: интуитивно понятный пользовательский интерфейс, полный контроль над всеми этапами процесса, простота эксплуатации и обслуживания. Низкая стоимость эксплуатации: возможна поставка настраиваемых конвейерных линий, полностью автоматизированная работа, снижение трудозатрат, низкое потребление газа, высокая стабильность и, как следствие, снижение эксплуатационных затрат.
Индивидуальные решения: разработка специальных газовых смесей и автоматизированных решений в соответствии с потребностями заказчиков из различных отраслей промышленности.
Малогабаритная вакуумная плазменная очистная установка: Управление оборудованием осуществляется с помощью ПЛК и сенсорного экрана, что обеспечивает простоту эксплуатации и обслуживания.
Продукция в основном предназначена для мелкосерийного производства и научных экспериментов; Рабочая камера изготовлена из нержавеющей стали марки 316 и импортного алюминиевого сплава, устойчивых к коррозии. Конфигурация рабочей камеры может быть адаптирована под требования заказчика к изделиям; Импортный игольчатый клапан и прецизионный расходомер, два канала подачи технологических реакционных газов; Уникальная конструкция электродов обеспечивает равномерность плазмы; Высокий уровень безопасности, многоуровневая система защитных мер.
Малогабаритное вакуумное плазменное оборудование для обработки поверхностей, подходящее для условий мелкосерийного производства, например, в университетских лабораториях или исследовательских институтах.
Вакуумная плазменная очистная установка: газ ионизируется источником возбуждения до состояния плазмы, после чего плазма воздействует на поверхность изделия, удаляя загрязнения, повышая активность поверхности и улучшая адгезионные свойства.
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
