вакуумная плазменная очистительная установка объемом 15 л

Она состоит из источника питания для ионов, вакуумной системы, системы подачи газа, автоматической системы управления и других компонентов. Основной принцип работы заключается в том, что в вакуумном состоянии плазма может ионизировать газ под контролируемыми и качественно заданными условиями. Вакуумный насос используется для откачки рабочей камеры до вакуума 10–40 Па, после чего газ ионизируется под действием высокочастотного генератора, образуя плазму (четвёртое состояние вещества). Её характерной особенностью является высокая однородность свечения при тлеющем разряде; в зависимости от используемого газа наблюдается видимое свечение различных цветов — от голубого до тёмно-фиолетового. Температура обработки материала близка к комнатной. Эти высокоактивные частицы взаимодействуют с обрабатываемой поверхностью, обеспечивая различные модификации её свойств: повышение гидрофильности или гидрофобности, снижение коэффициента трения, высокую степень очистки, активацию поверхности и травление.
Преимущества плазменной обработки: 1. Технология охраны окружающей среды: процесс действия плазмы представляет собой согласованную газо-твердую фазовую реакцию, которая не требует расхода водных ресурсов, не нуждается в добавлении химических реагентов и не загрязняет окружающую среду. 2. Универсальность: подлежит обработке любой тип субстрата, включая металлы, полупроводники, оксиды и большинство полимерных материалов. 3. Низкая температура: близка к комнатной, особенно подходит для полимерных материалов; обеспечивает более длительный срок хранения и более высокое поверхностное натяжение по сравнению с коронным разрядом и пламенной обработкой. 4. Высокая функциональность: затрагивает лишь поверхностный слой полимерного материала (глубина 10–1000 Å), при этом материал сохраняет свои собственные свойства, а на его поверхности появляется одна или несколько новых функций. 5. Низкая стоимость: оборудование простое, удобное в эксплуатации и обслуживании, допускает непрерывную работу. Часто несколько баллонов газа заменяют тысячи килограммов очищающей жидкости, поэтому стоимость очистки значительно ниже, чем при влажной очистке. 6. Полный контроль технологического процесса на всех этапах