 
  


| estrutura    | ilustrar  | 
| Expondo a bancada  | Área de exposição: bancada, área de colocação do substrato  | 
| Sistema óptico  | Área de formação de emissão a laser  | 
| Sistema de controle ambiental  | Controle da temperatura e pressão positiva interna do dispositivo  | 
| Sistema de plataforma  | Controla o movimento da mesa de exposição para completar a operação do caminho de exposição  | 
| Sistema de Controle    | Sistema de controle de todo o equipamento  | 
| Não.  | Ambiente  | Exigir  | 
| 1 | Ambiente de fonte de luz  | Luz amarela  | 
| 2 | Temperatura  | 22℃±2℃ | 
| 3 | Umidade  | 50%±10% | 
| 4 | Limpeza  | 1000 | 
| 5 | CDA  | 0.6±0.1Mpa, 200LPM, ar seco e limpo  | 
| 6 | Fonte de alimentação  | 220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; O fio terra deve estar aterrado,  | 
| 7 | Água de Resfriamento  | Temp.:10℃~ 20℃  Pressão:0,3MPa ~ 0,5MPa Vazão:20L/min Diferença de pressão:0,3MPa acima Calibre da conexão:Rc3/8 | 
| 8 | Local de realização  | nível:±3mm/3000mm vibração:VC-B Rolamento:750kg/㎡  | 
| 10 | Internet  | Uma porta de rede  | 
| 11 | Tamanho da máquina    | 1300*1100*2100mm  | 
| 12 | Peso do dispositivo  | 1500kg  | 
| Não.  | Projeto    | Especificações.  | Observação    | 
| 1 | Resolução  | 0,6um/ou outra exigência  | AZ703、AZ1350  | 
| 2 | CDU  | ±10%@1um  | |
| 3 | Espessura do substrato  | 0.2mm~4mm  | |
| 4 | Precisão da grade de data  | 60nm  | |
| 5 | Sobreposição  | ±500nm  | 130mmx130mm  | 
| 6 | Precisão de emenda  | ±200nm  | AZ703  | 
| 7 | Tamanho máximo de exposição  | 190X190mm  | |
| 8 | Capacidade de Produção  | ≥300mm²/min  | ≤50mj/cm²;  | 
| 9 | fonte de luz  | LD 375nm  | |
| 10 | potência da luz    | 6W  | |
| 11 | Uniformidade de energia  | ≥95% | |
| 12 | vida útil da luz  | 10000h  | 


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