Გუანგზოუ Minder-Hightech Co., Ltd.

Მთავარი გვერდი
Ჩვენს შესახებ
MH აპარატურა
Გამოსახულება
Სხვა ქალაქის მომხმარებლები
Ვიდეო
Დაგვიკავშირდით

Ნახევარგამტარის ქიმიურ-მექანიკური გასივრცება

Ქიმიურ-მექანიკური გლუვის საფუძვლების შესწავლა ნახევარგამტარების ინდუსტრიაში სტუდენტებისთვის საინტერესო საგნის საგნობა შეიძლება იყოს. დავუშვათ, ჩვენ ვიმყოფებით მსოფლიოში, სადაც არსებობს აბსოლუტურად ზუსტი, დახვეწილი მეთოდები მცირე ელექტრონული ნივთების გასაკეთებლად (მაგალითად, ქიმიურ-მექანიკური გლუვის გამოყენებით).

CMP, ან ქიმიურ-მექანიკური გლუვი Სემიკონდუქტორული სიმაგრი კავშირი და ქიმიურ-მექანიკური პლანავიზაცია, მოკლედ, არის ტექნიკა, რომელიც გამოიყენება ნახევარგამტარის წარმოების დროს სილიციუმის ფირფიტაზე ბრტყელი და გლუვი ზედაპირის მისაღებად. ეს მიიღწევა ქიმიური და მექანიკური პოლირების პროცესების სერიით, რომლებიც ამოიცილებენ უregularობებს და ქმნიან გლუვ ზედაპირს, რომელზედაც შემდგომი მეტალის ფენების წარმოების პროცესები შეიძლება განხორციელდეს.

Ქიმიურ-მექანიკური გასივრცების ტექნიკის გამოყენებით ზუსტი ბრტყელობის მიღწევა

Minder-Hightech-ის ქიმიურ-მექანიკურ პლანირებაში (CMP) აბსოლუტურად ბრტყელი ზედაპირის მიღება ნახევარგამტარის მოწყობილობების მუშაობისთვის აუცილებელია. „ჭურჭელი იმდენად მდგრადია, რამდენადაც მისი ფუძეა“, თქვა პროფესორმა პარსონმა, ახსნის გასაცემად, თუ როგორ აისახება ზღვის ყინული პლანეტაზე. იმავდროულად  Სემიკონდუქტორული მართვა მსოფლიოში, ბრტყელი ზედაპირი მნიშვნელოვანია იმის უზრუნველსაყოფად, რომ მოწყობილობა მაქსიმალურად მუშაობდეს.

Why choose Მეტი-ტექნოლოგიური Ნახევარგამტარის ქიმიურ-მექანიკური გასივრცება?

Დაკავშირებული პროდუქტის კატეგორიები

Ნვ ნაოპაგთრვ ქრჲ რპწბგაქ?
Სვანეთსა და კვანძში

Მოთხოვნა ციფრით
Ინკვირი Ელ. ფოსტა WhatsApp TOP