Bevezetés:
A két célpontos magnetron szórási bevonóberendezés egy laboratóriumi célú, két célponti pozíciót tartalmazó bevonóberendezés, amelyet cégünk fejlesztett ki. A berendezés rendelkezik egy egyenáramú és egy rádiófrekvenciás tápegységgel. A szokásos plazmaszórással összehasonlítva a magnetron szórásnak magas energiatartalma és sebessége, valamint magas bevonási sebessége van, és tipikus gyors, alacsony hőmérsékletű szórási eljárás. A magnetron céltárgy vízhűtéses köztes réteggel van felszerelve. A vízhűtő hatékonyan elvezeti a hőt, és megakadályozza a hő felhalmozódását a céltárgy felületén, így a magnetron bevonás hosszú ideig stabilan működhet. Ennek a modellnek a mintatartó állványa ingadozó (reciprokáló) kialakítású, és a bal oldalán mágneses csatolású tolórúd található, amely a mintatartó állványt balra és jobbra tolja. A teljes berendezést érintőképernyőről lehet vezérelni, amelyen belső egygombos bevonási program is elérhető, így a kezelése egyszerű és könnyű. Ez az eszköz ideális a laboratóriumi vékonyréteg-készítéshez.
Alkalmazás:
Egy- vagy többrétegű ferroelektromos vékonyfilmek, vezető rétegek, ötvözet-filmek, féligvezető-filmek, kerámiarétegek, dielektrikus rétegek, optikai rétegek stb. előállítására használható.