Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Árajánlat kérése

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Főoldal
Rólunk
MH Felszerelés
Megoldás
Külföldi Felhasználók
Videó
Kapcsolat
Főoldal> PR eltávolítás RTP USC
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép
  • Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép

Tisztított Halvér Miután Az Etelés ICP Kísérleti Plazma Fényérzékeny Változó Eltávolítása Gép

Kérjen ingyenes árajánlatot
Termékleírás

ICP kísérleti plazma fotoreziszt eltávolító gép

Polimer eltávolítás, síkfém oxid vagy síkfém karbide etching, tisztítás etching után
ASHING Polimer eltávolítás DESCUM Szárított eltávolítás kemény maszk rétegből Fényérzékeny ellenállás távolítása jon implantációs után Optikai ellenállás távolítása média között Fényérzékeny ellenállás távolítása BAW/SAW folyamatban Szárító tisztítás anti-reflektív grafikus filmrétegből Silícium oxid vagy silícium nitrid etching Felületi maradványok eltávolítása Felületi tisztítás az etching után Silícium-karbide etching
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Specifikáció
PLASMA forrás
RF+BIAS
Teljesítmény
1000W
1000W
600 W
600 W
Alkalmazási kör
4-8 inches
Egyetlen feldolgozási szelet száma
egy
Kijelentkezési méretek
1140mm x 1050mm x 1620mm
Rendszervezérlés
Ipari vezérlőrendszer
Automatizációs szint
Kézi
Gyár
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Csomagolás & Szállítás
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Vállalati profil
16 éves tapasztalattal az eszközök exportjában! Önnek állandó Szemiconductors Előzetes Folyamatok és Eszközök megoldást tudunk nyújtani!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

További termékek

Kérés

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Adatvédelmi szabályzat

Kérés Email WhatsApp TETEJÉN
×

Lépjen kapcsolatba