Introducción:
El equipo de recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica es un instrumento de laboratorio especializado desarrollado por nuestra empresa. El equipo puede equiparse con fuente de alimentación de corriente continua (CC) y fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF). La potencia varía entre 500 W y 1000 W. En comparación con la pulverización por plasma convencional, la pulverización catódica magnetrónica presenta ventajas como alta energía, alta velocidad, alta tasa de deposición y bajo aumento de temperatura de la muestra. El blanco magnetrónico está equipado con una capa intermedia refrigerada por agua. El sistema de refrigeración por agua extrae eficazmente el calor y evita la acumulación térmica en la superficie del blanco, lo que permite que el recubrimiento magnetrónico funcione de forma estable durante largos periodos. Tras un diseño compacto, se logra un equilibrio óptimo entre volumen y rendimiento, con un aspecto estético y una funcionalidad integral. El equipo completo se controla mediante una pantalla táctil y un programa integrado de recubrimiento con un solo botón, lo que facilita su operación y lo convierte en un equipo ideal para la preparación de películas delgadas en laboratorio.
Aplicación:
Puede utilizarse para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.