Instrumento de recubrimiento por magnetrón con etapa muestral alternativa y dos objetivos

Introducción: El instrumento de recubrimiento por pulverización catódica de doble objetivo es un equipo de recubrimiento específico para laboratorio, desarrollado por nuestra empresa, que dispone de dos posiciones para objetivos. El equipo está equipado con una fuente de alimentación de corriente continua (CC) y una fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF). En comparación con la pulverización por plasma convencional, la pulverización catódica presenta ventajas como alta energía y alta velocidad, elevada tasa de recubrimiento, y constituye una técnica típica de pulverización rápida a baja temperatura. El objetivo catódico incorpora una capa intermedia refrigerada por agua. El sistema de refrigeración por agua extrae eficazmente el calor y evita la acumulación térmica en la superficie del objetivo, lo que permite que el proceso de recubrimiento catódico funcione de forma estable durante largos periodos. La platina portamuestras de este modelo adopta un diseño alternativo, con una varilla de empuje acoplada magnéticamente situada en el lado izquierdo, capaz de desplazar la platina hacia la izquierda y hacia la derecha. El equipo completo se controla mediante una pantalla táctil, que incluye un programa integrado de recubrimiento con una sola pulsación, resultando sencillo y fácil de operar; es, por tanto, un equipo ideal para la preparación de películas delgadas en laboratorio.
Aplicación: se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.