La máquina de rectificado y pulido de precisión MDAM-CMP100/150, la unidad principal y todas las piezas de repuesto están hechas de materiales altamente resistentes a la corrosión. Toda la máquina es resistente a la corrosión, estable, desgaste-resistant y antióxido, adecuada para el rectificado y pulido químico mecánico de diversos materiales semiconductores. El área de trabajo está separada del área de control de visualización y se controla digitalmente mediante un sistema de control táctil. Es controlada por CNC, con capacidad de almacenamiento y recuperación.
El sistema del dispositivo tiene una función de temporización, que puede funcionar continuamente durante 10 horas y controlar la velocidad del disco de pulido. El panel de control está ubicado fuera de la zona de trabajo para evitar que la solución abrasiva salpique el panel de control. Todos los parámetros del equipo principal se pueden ajustar en la pantalla táctil. Los parámetros del proceso del equipo principal tienen funciones de almacenamiento y recuperación para garantizar la consistencia y repetibilidad del proceso. La muestra del wafer se adsorbe en la superficie inferior del accesorio mediante bombeo de vacío, equipado con un bombeo de vacío sin aceite, y tiene una función independiente de prevención de succión inversa.
El sistema de rotación horizontal de configuración de la muestra tiene una función de oscilación, con un rango de oscilación ajustable de 0-100%. La amplitud y la frecuencia de oscilación se pueden configurar con precisión a través del panel de control. El soporte está equipado con un sistema de accionamiento independiente para la rotación, con un rango de velocidad ajustable de 0-120rpm. Este diseño funcional asegura un pulido completo de la muestra durante el proceso de lijado y pulido, mejorando considerablemente la capacidad y eficiencia del equipo.
El soporte está equipado con una mesa de monitoreo digital de grosor, con una precisión de monitoreo de 1 μm. La presión del soporte sobre la muestra de wafer es continuamente ajustable, con un rango de presión de 0-3,5kg y una precisión de 2g/cm², y está equipado con un dispositivo de medición de presión.
La operación del disco de rectificado y pulido está controlada por el accionamiento principal, y la velocidad del disco puede ajustarse desde 0 hasta 120 revoluciones por minuto. Este rango de variación de velocidad asegura eficazmente la adecuación de la velocidad de rectificado y pulido para muestras de materiales con distinta dureza y tamaño, logrando así indicadores de proceso superiores.
El reemplazo de los discos de rectificado y los discos de pulido es sencillo y rápido, gracias a los discos integrados que permiten que el equipo pase rápidamente del proceso de rectificado al de pulido, reduciendo considerablemente el tiempo del proceso. Además, el disco de rectificado está equipado con un bloque de reparación de discos para garantizar que mantenga una buena planicidad.