estructura |
ilustrar |
Mesa de exposición |
Área de exposición: mesa, área de colocación del sustrato |
Sistema óptico |
Área de modelado de emisión láser |
Sistema de control ambiental |
Controlar la temperatura y la presión positiva interna del dispositivo |
Sistema de plataforma |
Controla el movimiento de la mesa de exposición para completar la operación de la ruta de exposición |
Sistema de Control |
Sistema de control de todo el equipo |
No, no lo estoy. |
Ambiente |
Requieren |
1 |
Entorno de fuente de luz |
Luz amarilla |
2 |
Temperatura |
22℃±2℃ |
3 |
Humedad |
50%±10% |
4 |
Limpieza |
1000 |
5 |
CDA |
0.6±0.1Mpa, 200LPM, aire seco y limpio |
6 |
Fuente de alimentación |
220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; El cable de tierra debe estar conectado a tierra, |
7 |
Agua de Enfriamiento |
Temp.：10℃~ 20℃ Presión：0.3MPa ~ 0.5MPa Caudal：20L/min Diferencia de presión：0.3MPa o más Calibre de conexión：Rc3/8 |
8 |
Lugar de celebración |
nivel：±3mm/3000mm vibración：VC-B Rótula：750kg/㎡ |
10 |
Internet y otros |
Un puerto de red |
11 |
Tamaño de la máquina |
1300*1100*2100mm |
12 |
Peso del dispositivo |
1500kg |
No, no lo estoy. |
PROYECTO |
Específicamente. |
Comentario |
1 |
Resolución |
0.6um/u otro requisito |
AZ703, AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Espesor del sustrato |
0.2mm～4mm |
|
4 |
Precisión de la cuadrícula de fecha |
60nm |
|
5 |
Superposición |
±500nm |
130mmx130mm |
6 |
Precisión de unión |
±200nm |
AZ703 |
7 |
Tamaño máximo de exposición |
190X190mm |
|
8 |
Rendimiento |
≥300mm2/min |
≤50mj/cm2; |
9 |
fuente de luz |
LD 375nm |
|
10 |
potencia de luz |
6W |
|
11 |
Uniformidad de energía |
≥95% |
|
12 |
vida útil de la luz |
10000hr |
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