El punto más alto
Introducción: Este equipo es un instrumento de recubrimiento por magnetrón de doble objetivo. Está equipado con dos objetivos de magnetrón y dos conjuntos de fuentes de alimentación de corriente continua (CC). Puede utilizarse para depositar películas metálicas conductoras multicapa. Al mismo tiempo, el equipo consta de dos partes: la cámara principal y la cámara de transición. La cámara de transición está equipada con una varilla de empuje magnética, y entre ambas cámaras se instala una válvula de compuerta al vacío. El usuario puede cargar las muestras en la cámara de transición y realizar un pre-vaciado mientras se lleva a cabo la pulverización catódica (sputtering) en la cámara principal. Una vez finalizada la pulverización catódica en la cámara principal, la muestra puede empujarse mediante la varilla de empuje magnética hasta la plataforma de muestras de la cámara principal. Este diseño reduce el número de ciclos de evacuación y ventilación de la cámara principal, lo que no solo permite ahorrar tiempo de forma eficaz, sino que también garantiza un mejor vacío local y mejora efectivamente la calidad del recubrimiento.
Aplicación: se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.