Introducción:
Este equipo es un instrumento de recubrimiento por magnetrón de doble objetivo. Está equipado con dos objetivos de magnetrón y dos conjuntos de fuentes de alimentación de corriente continua (CC). Puede utilizarse para depositar películas metálicas conductoras multicapa. Al mismo tiempo, el equipo consta de dos partes: la cámara principal y la cámara de transición. La cámara de transición está equipada con una varilla de empuje magnética, y entre ambas cámaras se instala una válvula de compuerta de vacío. El usuario puede cargar las muestras en la cámara de transición y realizar un pre-vaciado mientras se lleva a cabo la pulverización catódica (sputtering) en la cámara principal. Una vez finalizada la pulverización catódica en la cámara principal, la muestra puede empujarse hasta la plataforma de muestras de la cámara principal mediante la varilla de empuje magnética. Este diseño reduce el número de ciclos de evacuación y ventilación de la cámara principal, lo que no solo permite ahorrar tiempo de forma eficaz, sino que también garantiza un mejor vacío local y mejora eficazmente la calidad del recubrimiento.
Aplicación:
Puede utilizarse para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.