El punto más alto
Introducción:
El recubridor de pulverización catódica de doble objetivo es un recubridor específico para laboratorio desarrollado por nuestra empresa. El equipo puede equiparse con una fuente de alimentación de corriente continua (CC) y una fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF), con una potencia que oscila entre 500 W y 1000 W. En comparación con la pulverización por plasma convencional, la pulverización catódica presenta ventajas como alta energía y alta velocidad, elevada tasa de recubrimiento y reducido aumento de temperatura de la muestra; constituye, por tanto, una técnica típica de pulverización de alta velocidad y baja temperatura. El blanco catódico está equipado con una capa intermedia refrigerada por agua. El sistema de refrigeración por agua extrae eficazmente el calor y evita su acumulación en la superficie del blanco, lo que permite que el proceso de recubrimiento catódico funcione de forma estable durante largos periodos. El equipo ha sido diseñado de forma compacta para lograr un equilibrio óptimo entre volumen y rendimiento, con un aspecto estético atractivo y funciones completas. La máquina completa se controla mediante una pantalla táctil, que incorpora un programa integrado de recubrimiento de una sola pulsación, resultando así sencilla y fácil de operar. Es un equipo ideal para la preparación de películas delgadas en el laboratorio.
Aplicación: se puede utilizar para preparar películas delgadas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.