Introducción:
El equipo ha sido miniaturizado, conservando la cavidad de acero inoxidable de alto vacío mientras se simplifican otros mecanismos, limitando así las dimensiones del equipo al nivel de escritorio y reduciendo considerablemente los requisitos del espacio de instalación. El equipo está equipado con una fuente de alimentación de corriente continua (CC) y una fuente de alimentación de radiofrecuencia (RF). El objetivo de CC puede utilizarse para la pulverización catódica de metales y otros materiales conductores, mientras que la fuente de alimentación de RF puede emplearse para la pulverización catódica de diversos no metales y óxidos metálicos. El sistema de vacío del equipo utiliza una bomba de vacío totalmente importada, con velocidad de bombeo rápida, alto grado de vacío final y un excelente rendimiento en vacío. Este equipo presenta una estructura compacta, funciones completas y facilidad de uso, lo que lo hace muy adecuado para diversas pruebas de recubrimiento.
Aplicación:
Puede utilizarse para la preparación de películas metálicas delgadas, en campos electrónicos, ópticos, cerámicas especiales, etc. Asimismo, puede emplearse para la preparación de muestras destinadas al análisis en microscopio electrónico de barrido (SEM) en laboratorio.