 
  


| struktur    | veranschaulichen  | 
| Belichtungstisch  | Belichtungsgebiet: Tisch, Substratplatzierungsgebiet  | 
| Optisches System  | Laserausstoßformgebiet  | 
| Umgebungskontrollsysteem  | Kontrolliert die innere Temperatur und den Überdruck des Geräts  | 
| Plattformsystem  | Steuert die Bewegung der Belichtungstisch, um den Vorgang des Belichtungspfads abzuschließen  | 
| Kontrollsystem  | Steuerungssystem des gesamten Geräts  | 
| Nein.  | UMWELT  | Erfordern  | 
| 1 | Lichtquellenumgebung  | Gelbes Licht    | 
| 2 | Temperatur  | 22℃±2℃ | 
| 3 | Feuchtigkeit    | 50%±10% | 
| 4 | Sauberkeit  | 1000 | 
| 5 | CDA  | 0.6±0.1Mpa, 200LPM, trocken, saubere Luft  | 
| 6 | Stromversorgung  | 220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; Das Erdkabel muss erdet sein  | 
| 7 | Kühlwasser  | Temp.:10℃~ 20℃  Druck:0.3MPa ~ 0.5MPa Durchfluss:20L/min Druckdifferenz:0.3MPa oder höher Anschlusskaliber:Rc3/8 | 
| 8 | Ort der Veranstaltung  | ebene:±3mm/3000mm Schwingung:VC-B Lager:750kg/㎡  | 
| 10 | Internet  | Ein Netzwerkport  | 
| 11 | Maschinengröße    | 1300*1100*2100mm  | 
| 12 | Gerategewicht  | 1500 kg  | 
| Nein.  | Projekt    | Spezifikationen.  | Bemerkung    | 
| 1 | Auflösung    | 0.6um/oder andere Anforderungen  | AZ703, AZ1350  | 
| 2 | CDU  | ±10%@1um  | |
| 3 | Substratdicken  | 0.2mm~4mm  | |
| 4 | Datumsgittergenauigkeit  | 60nm  | |
| 5 | Überlagerung  | ±500nm  | 130mmx130mm  | 
| 6 | Verkettungsngenauigkeit  | ±200nm  | AZ703  | 
| 7 | MAX Belichtungsgröße  | 190X190mm  | |
| 8 | Durchsatz  | ≥300mm²/min  | ≤50mj/cm²;  | 
| 9 | lichtquelle<br>  | LD 375nm  | |
| 10 | lichtleistung    | 6W  | |
| 11 | Energiegleichmäßigkeit  | ≥95% | |
| 12 | lampenleben  | 10000h  | 


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