Термічно активована вакуумна паяльна піч , China Термічно активована вакуумна паяльна піч Manufacturers, Suppliers, Factory

Термічно активована вакуумна паяльна піч

Модель: MDVES-300RJ

Застосування: прилади для виявлення равликів, датчики та інфрачервоні детектори.

Термічно активована високовакуумна паяльна піч MDVES-300RJ

微信图片_20261010100123.jpg 微信图片_20261010100114.jpg

Застосування:

Прилади, датчики й інфрачервоні детектори Snail.

Особливості:

1. Це обладнання призначене для одночасної активації й герметизації виробів, що містять геттери. Воно забезпечує активацію у високому вакуумі й при високій температурі, а також процеси герметизації при високій і низькій температурах.

2. Використовує спеціалізований підіймальний механізм і систему теплової ізоляції для забезпечення ефективних температурних різниць без впливу на процес герметизації другої кришки.

3. Індивідуальні технологічні пристосування для різних виробів, здатні обробляти великі розміри й підтримувати масове виробництво, що підвищує ефективність виробництва й обсяги випуску.

4. Вироби розміщуються на лотках і фіксуються за допомогою L-подібних затисків із точністю позиціонування 0,02 мм як по вертикалі, так і по горизонталі.

5. Досягає високого вакууму до 10^-5 Па, забезпечуючи ідеальний високий вакуум, активацію при високій температурі та криві активації зварювання.

6. Підходить для невохолоджуваних інфрачервоних детекторів, МЕМС, гіроскопів та інших подібних пристроїв.

Ефект паяння:

Параметри:

Базова рама
Базова рама	Приблизно 1500 мм × 900 мм × 840 мм
Висота камери	Приблизно 500–530 мм
Віконце спостереження	Обладнана оглядовим вікном на передній частині камери
Вага	Дов. 500 кг
Вакуумна система
Вакуумний насос	Попередній ступінь — сухий насос + молекулярний насос
Робочий вакуум	10⁻⁵ Па
Середовище активації	350°C протягом приблизно 15 хвилин або більше
Газова система
Процесний газ	Азот
Система опалювання та охолодження
Спосіб нагріву	Контактне нагрівання, швидкість нагрівання 120 °C/хв
Метод охолодження	Контактне охолодження, швидкість охолодження 120 °C/хв
Матеріал нагрівальної плити	Зі сплавним покриттям
Площа гріву	270 мм – 300 мм (вісь X) × 270 мм – 300 мм (вісь Y)
Отопляльний елемент	Спеціальна вакуумна нагрівальна трубка; температура зчитується модулями PLC фірми Siemens із ПІД-регулюванням через верхній комп’ютер
Діапазон температур	Максимум 450 °C
Точність керування температурою	±1°C
Однорідність температури	±2,5 °C
Канали виявлення	4 канали
Потреби в енергії	380 В, 50 Гц, живлення ≤25кВт
Системи керування
Метод керування	ПЛК Siemens + промисловий ПК
Підйомна платформа	Точність повторного позиціонування 0,02 мм, хід підйому 150 мм
Ущільнення підйомної платформи	Унікальне гармошкоподібне ущільнення на валу приводу для досягнення нульової витічки під час руху вала
Пластина оснащення	Графіт
Кількість пристосувань для оснащення	Індивідуально розроблено з урахуванням вимог до продукту
ДОПОМІЖНЕ ОБЛАДНАННЯ
Стандартна конфігурація	Вакуумний сухий насос, циркуляційний охолоджувач, молекулярний насос, пристосування для оснащення, підйомна платформа
Екологічні вимоги
Джерело газу	Тиск газу 0,5–0,8 МПа
Джерело живлення	380 В, 50 Гц, живлення ≤25кВт
Температура навколишнього середовища	15~35°C
Відносна вологість	≤75%