Застосування: Збирання мікроелементів, процес відклеювання спеціалізованих матеріалів, фотодіоди
Приклеювання кристалів, упакування та приклеювання високоякісних кристалів, приклеювання лазерних планок
Лазерне приклеювання, різні типи ультрависокоточного мікроскопічного збирання, збирання високоякісних пристроїв
Багатофункціональний субмікронний пристрій для з’єднання кристалів — це високопродуктивна система, призначена для процесів мікрозбірки та з’єднання на етапі розробки технологій у лабораторних умовах. Вона підтримує широке коло застосувань: з’єднання кристалів із підкладками-радіаторами та з’єднання кристалів із пластиною, збірку мініатюрних компонентів, з’єднання лазерних діодів, упакування високоякісних пристроїв та чіпів, надвисокоточну мікрозбірку, збірку фотодіодів, з’єднання лазерних планок, а також роз’єднання спеціалізованих матеріалів; є незамінним інструментом для експериментальних наукових досліджень та розробок у різних галузях.
Застосування:
Збирання мікроелементів, процес відклеювання спеціалізованих матеріалів, фотодіоди
Приклеювання кристалів, упакування та приклеювання високоякісних кристалів, приклеювання лазерних планок
Лазерне приклеювання, різні типи ультрависокоточного мікроскопічного збирання, збирання високоякісних пристроїв
З’єднання кристалів із підкладками-радіаторами:

З’єднання кристалів із пластиною

Основні переваги:
Технологія:
Особливості:
Модулі конфігурації / Додаткові модулі застосування


Технічні параметри:
Параметр |
СПЕЦ |
Точність розміщення |
До ±0,5 мкм (діапазон точності вибирається за допомогою параметрів конфігурації) |
Розмір чіпа |
0.05 мм від 0,05 мм до 100 мм × 100 мм (діапазон розмірів кристалів/чіпів вибирається за допомогою параметрів конфігурації) |
Розмір субстрату |
0.05 мм від 0,05 мм до 300 мм × 300 мм (діапазон розмірів підкладок вибирається за допомогою параметрів конфігурації) |
Температура |
До 500 °C (метод нагріву та діапазон температур вибираються за допомогою параметрів конфігурації) |
Сила з'єднання |
0,05 Н до 5000 Н (діапазон зусилля зчеплення вибирається за допомогою параметрів конфігурації) |
Опційні конфігурації:
1. Традиційне термокомпресійне зчеплення — вимагає модулів, таких як: стандартні необігрівальні сопла для підйому, модулі нагріву з керуванням температурним профілем та модулі високої точності для створення тиску.
2. Стандартне зчеплення кристалів (без нагріву) — вимагає модулів, таких як: стандартні необігрівальні сопла для підйому та модулі високої точності для створення тиску.
3. Зчеплення кристалів із дозуванням епоксидної смоли — вимагає модулів, таких як: стандартні необігрівальні сопла для підйому, ручні модулі дозування та модулі високої точності для створення тиску.
4. Ультразвукове золото-кулькове зчеплення — вимагає модулів, таких як: стандартні необігрівальні сопла для підйому, ультразвукові модулі та модулі високої точності для створення тиску.
5. Зчеплення кристалів у режимі роз’єднання — вимагає модулів, таких як: універсальні самовирівнювальні сопла для підйому, модулі нагріву з керуванням температурним профілем та модулі високої точності для створення тиску.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved