Компанія Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Домашня сторінка
Про Нас
Обладнання MH
Рішення
Заграничні Користувачі
Відео
Зв’язатися з нами
Головна> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок
  • Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок
  • Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок
  • Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок

Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок

Опис товару

Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок

Обладнання головним чином використовується для процесу покриття графену та наноматеріалів; Дифузія, окислення та анелеювання багатокристалічного сильцію та карбіду сильцію.
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details
Специфікація
структурний стиль
Горизонтальна, система з однією або багатьма трубками з автоматичним керуванням
Відповідає розміру пластинки
2-8″
Метод доставки та отримання пластинки
Автоматичний кільцевий кварцовий човен з приводом «натиск-тягнення», поєднаний із ручним заборонням та випуском чипів.
максимальна температура
1050℃
робоча температура
400 ℃~850 ℃ неперервно регулювано
Стабільність температури в одній точці
400℃~850℃≤±0.5℃/24г
Системний граничний вакуум
Краще за 1Па
швидкість накачування
Час накачування до граничного вакууму < 15хв
Діапазон робочого тиску
від 5Па до 1 × 105Па неперервно регулювано
Блок живлення
3-фазний 5-проводний 380В±10%, 50Гц
охолоджувальна вода
2~4Кгс/см², 8Л/хв;
Упаковка та доставка
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

Запит

Запит Email Whatsapp WeChat
Верхній
×

Зв’яжіться з нами