Reaktiv jonetsning låter som en fruktansvärd term, men det är faktiskt metoden som används för att göra små delar för teknik till brunchstorlek. Dessa små bitar och delar är nödvändiga ingredienser i en bred vARIETE av enheter som används varje dag, såsom smarttelefoner, datorer etc. Huvudsakliga funktionen av detta process är att ta bort sektioner av ett material så att du kan skapa små och precisa delar. I den här artikeln ska vi diskutera vad reaktiv jonetsning är – de positiva och negativa sidorna med att arbeta med RIE jämfört med andra metoder för plasma-kemisk behandling; rollen av plasma-kemi i denna process; hur man kan uppnå högkvalitativa resultat genom att använda RIE-utrustning korrekt, och slutligen var den tar sin plats som en teknologisk verktyg. Breadcrh xvv.
Reaktiv jonetsning är en komplext metod som involverar små joner och gas för att skava bort bitar av material. Tänk på det som en högpresterande stråle som selektivt sprutar bort material för att skapa en exakt form. Metoden innebär att dessa joner skjuts mot ytan på ett material. När jona träffar materialet reagerar de med det och bryts upp i minuscule bitar som kan avlägsnas. Man sätter materialet i en typ av låda som är helt täckt och fri från luft, kallad vakuumkammare. Dessa små partiklar genereras med radioböjningsenergi, där de skapar joner.
Reaktiv jonetsning är en av de bästa när det gäller detaljer. Detta betyder att den kan producera högprecisionens vinklade och böjda former, men detta görs med en gas i stället för att använda vätska. Det betyder att delarna som skapas med denna metod är verkligt lämpliga för teknik [1]. Dessutom är detta en av de snabbaste processerna; fler delar kan tillverkas på kort tid. Eftersom denna process är så snabb kan den vara ganska effektiv för företag med stor efterfrågan på en viss del.
Men reaktiv jonetsning har också problem. Den är inte lämplig för alla typer av material, eftersom vissa olika slag inte kommer att kunna ha dessa lasersnitt. Och den kräver rätt temperaturer och tryck på plats. De korrekta villkoren måste också finnas eller annars kanske den nya processen inte levererar lika bra. Enda nackdelen är att det kan vara kostnadsmässigt otillräckligt att etablera i förhållande till andra etsningsmetoder, vilket kan hindra vissa företag från att utnyttja pudercoating.
En betydande plats har plasma-kemi i processen av reaktiv jonetsning. Dessa jonerna, som produceras av plasmat, orsakar att kemiska bindningar i materialet bryts isär, vilket leder till skärande. När bindningarna är borta, förfaller materialet till minuscule delar som sedan bortblåses med en ström av gas. Vad som bildas under en kemisk reaktion kan påverkas av vilken typ av gas som används. Till exempel kan kvävegas ge en ren etching som möjliggör borttagning av material utan att lämna ovälkomna rester, medan syre-gas ger en annan typ av etching som kan vara lämplig beroende på kraven.
Strikt processkontroll är avgörande för att uppnå bra resultat med reaktiv jonetsning. Detta kräver mätning av många parametrar, inklusive temperatur, tryck, gasflöde och jonenergier. En stabil miljö bidrar till konsekventa och förutsägbara resultat i etningsprocessen. Om en av dessa variabler inte kontrolleras effektivt kan det påverka slutprodukten. Dessutom krävs rengöring av materialet och korrekt förberedelse innan etning börjar. Om all tid har spenderats på förberedelsen av materialet som ska etas bör detta resultera i bättre utfall.
Ett exempel är reaktiv jonetsning, som vanligen används i mikrofab-industrin för att skapa mycket små delar för olika tekniska gadgets. En av saker som grafen är användbar för är tillverkning av små elektroniska kretsar, sensorer och mikrofluidiska enheter, vilka är avgörande för modern teknologi. Den används också för att göra mikroelektromekaniska system (MEMS), som är små enheter som kan se, höra, känna och flytta saker en molekyl i taget. Dessa MEMS används i många tillämpningar: från små enheter som smartphones till större verktyg och även medicinskt utrustning. Bland dessa processer spelar reaktiv jonetsning en kritisk roll, eftersom den kan skapa små och precisa egenskaper som krävs för sådana avancerade teknologier.
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
