Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Strona główna
O nas
MH Urządzenia
Wideo z przypadku
Rozwiązanie
Użytkownicy Zagraniczni
Skontaktuj się z nami
Strona główna> Wakuumowy piec
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni
  • Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni

Termicznie aktywowana piec do lutowania w wysokiej próżni

Model: MDVES-300RJ

Zastosowanie: Instrumenty do ślimaków, czujniki i detektory podczerwieni.

Piec lutowania w wysokiej próżni aktywowany termicznie MDVES-300RJ

微信图片_20261010100123.jpg微信图片_20261010100114.jpg

Aplikacja:

Instrumenty, czujniki i detektory podczerwieni Snail.

1.jpg2.jpg3.jpg

CECHY:

1. To urządzenie przeznaczone jest do jednoczesnej aktywacji i zabezpieczania produktów zawierających gettery. Obsługuje aktywację w wysokiej próżni i w wysokiej temperaturze oraz procesy zabezpieczania w wysokiej i niskiej temperaturze.

2. Wykorzystuje specjalny mechanizm podnoszenia i system izolacji cieplnej, zapewniając skuteczne różnice temperatur bez wpływu na proces zabezpieczania drugiej pokrywy.

3. Dostosowane uchwyty technologiczne dla różnych produktów, pozwalające obsługiwać duże rozmiary i wspierać produkcję masową, co zwiększa wydajność i wydajność produkcyjną.

4. Produkty umieszczane są na tacach i zabezpieczane za pomocą zacisków typu L, z dokładnością pozycjonowania wynoszącą 0,02 mm zarówno w kierunku pionowym, jak i poziomym.

5. Osiąga poziom wysokiej próżni aż do 10^-5 Pa, zapewniając doskonałą wysokopróżniową, wysokotemperaturową aktywację oraz krzywe aktywacji spawalniczej.

6. Przeznaczony do niechłodzonych produktów detekcji podczerwieni, elementów MEMS, żyroskopów oraz innych podobnych urządzeń.

Efekt lutowania:

4(8b56d7c89a).jpg5(ed594a571d).jpg

Parametry:

Podstawowa ramka

Podstawowa ramka

Około 1500 mm × 900 mm × 840 mm

Wysokość komory

Około 500–530 mm

Okno obserwacyjne

Wyposażony w okno obserwacyjne z przodu komory

Waga

Około 500 kg

System próżniowy

Pompa próżniowa

Pompa sucha wstępna + pompa cząsteczkowa

Ciśnienie robocze w komorze

10⁻⁵ Pa

Środowisko aktywacji

350°C przez około 15 minut lub dłużej

System gazowy

Procesowe gazowe

Azot

System grzewczy i chłodzenia

Metoda ogrzewania

Ogrzewanie przez kontakt, szybkość ogrzewania: 120 °C/min

Metoda chłodzenia

Chłodzenie przez kontakt, szybkość chłodzenia: 120 °C/min

Materiał płyty grzejnej

Powlekany stopem

Obszar ogrzewania

270 mm – 300 mm (oś X) × 270 mm – 300 mm (oś Y)

Element grzewczy

Specjalna rura grzejna próżniowa; temperatura mierzona za pomocą modułów PLC firmy Siemens i sterowana algorytmem PID przez komputer nadrzędny

Zakres temperatur

Maksymalnie 450 °C

Dokładność kontroli temperatury

±1°C

Jednorodność temperatury

±2,5 °C

Kanały wykrywania

4 kanały

Wymagania dotyczące mocy

Napięcie 380 V, częstotliwość 50 Hz, zasilanie ≤25kW

System sterowania

Metoda sterowania

Sterownik PLC firmy Siemens + komputer przemysłowy

Podnośna platforma

Dokładność powtarzalnego pozycjonowania wynosząca 0,02 mm, skok podnoszenia wynoszący 150 mm

Uszczelnienie platformy podnoszącej

Unikalne uszczelnienie typu miech na wałku napędowym zapewniające brak wycieków podczas ruchu wałka

Płyta montażowa

Grafit

Liczba uchwytów montażowych

Dostosowane indywidualnie do wymagań produktu

Sprzęt pomocniczy

Standardowa konfiguracja

Sucha pompa próżniowa, chłodzenie obiegu zamkniętego, pompa molekularna, uchwyty montażowe, platforma podnosząca

Wymagania Ekologiczne

Źródło gazowe

Ciśnienie gazu 0,5–0,8 MPa

Zasilanie

Napięcie 380 V, częstotliwość 50 Hz, zasilanie ≤25kW

Temperatura otoczenia

15~35°C

Wilgotność względna

≤75%

Schemat układu oprawy:

微信图片_20261010100101.jpg微信图片_20261010100104.jpg微信图片_20261010100110.jpg微信图片_20261010100052.jpg

Zapytanie

Zapytanie E-mail WhatsApp WeChat
NAJLEPSZE
×

Skontaktuj się z nami