MDVES200 ვაკუუმური ევტექტიკური რეფლოუ საყურადღებო ღერძის ღერძი , China MDVES200 ვაკუუმური ევტექტიკური რეფლოუ საყურადღებო ღერძის ღერძი Manufacturers, Suppliers, Factory

MDVES200 ვაკუუმური ევტექტიკური რეფლოუ საყურადღებო ღერძის ღერძი

Მოდელი: MDVES200

Გამოყენების სფერო:

IGBT მოდულები, TR კომპონენტები, MCM, ჰიბრიდული წირების პაკეტები, დისკრეტული მოწყობილობის პაკეტები, სენსორი/MEMS პაკეტები (წყალით გამაცილებული), მაღალ ძალის მოწყობილობის პაკეტები, ოპტოელექტრონული მოწყობილობის პაკეტები, ჰერმეტიზებული პაკეტები (წყალით გამაცილებული), ევტექტიკური ბუმპის შეკრულება და ა.შ.

Ვაკუუმური ევტექტიკური რეфლოუ ღუმელი — ეს არის მოწყობილობა, რომელიც იყენებს ვაკუუმური გახურების პრინციპს ელექტრონული კომპონენტების შენადნობის სოლდერის პროცესის გარემოს უზრუნველყოფად.

微信图片_20250530153221.jpg

Შესავალება:

MDVES200 ვაკუუმული სინტერინგის ფურნის დიზაინის ბაზა არის ვაკუუმი და წყალის გამოთხილების კონტროლი, რაც არ მხოლოდ უზრუნველყოფს ცარიელი მაჩვენებლების პროცენტს, არამედ ამაღლებს გამოთხილების სიჩქარეს.

Სტანდარტული გაზი MDVES200-ისთვის შედგება: აზოტი, აზოტ-ჰიდროგენის მიღებული გაზი (95%/5%) და ფორმიკური მჟავი. მომხმარებელი არჩევს შესაბამის გაზს პროცესის გასართოლად თავის ფაქტიურ მდგომარეობის მიხედვით, და არ უნდა ვეროვნების დამატებითი კონფიგურაციაზე. მოწყობილობის PLC კონტროლური სისტემა ძალიან კარგად მონიტორингის გაკეთებს ვაკუუმის გამოტანის, გავლენის, გათბობის კონტროლისა და წყლის გამოსათხოვნელის მűმ Gaussian.

MUX200 არის 10L გარი, პროდუქტის ღირებულების მარტივობა საშიშია, რაც შესაძლებლობას აძლევს კლიენტებს კვლევისა და წარმოების საჭიროებების მორგებას.

Გამოყენების სფერო:

Მახასიათებლები:

1. MDVES200 არის ღირებულების მარტივი პროდუქტი პატარა ფუტპრინტით და სრული ფუნქციებით, რომლებიც შეძლებს კლიენტების R&D-სა და პირველი წარმოების გამოყენებას;

2. ფორმიკური მჟავის, აზოტის და აზოტ-ჰიდროგენის გაზის სტანდარტული კონფიგურაცია შეიძლება მომხმარებლის განსხვავებული პროდუქტების გაზის მოთხოვნას მოთხოვნას დასაკმარისია, არ არის განვითარების გაზის მაგიდის დამატების მომავალი მაგიდი;

3. წყლით გაცივების მართვის გამოყენებით შეიძლება გაიზარდოს გაცივების სიჩქარე, რაც საშუალებას აძლევს გაზრდას წარმოების სიჩქარეში და მაქსიმიზაციას წარმოებაში; 4. როდესაც მომხმარებელი მიმართავს მილის საშუალებით ვაკუუმის დასელებას, წყლით გაცივების დიზაინი გამოირჩევა თავისი უპირატესობებით და თავის არიდებს მილის ფურცელსა და მილის საშუალებით გამოწვეულ ჰაერით გაცივებას და მილის საშუალებით გამოწვეულ პრობლემას;

Სტრუქტურის ზომები
Ძირითადი ფრეიმი	8208201000mm
კავიტეტის მოცულობა	10 ლ
Ძირის მაქსიმალური სიმაღლე	110მმ
Მონაცემთა ფენტრი	მოიცავს
Წონა	220 კგ
Ვაკუუმის სისტემა
Ვაკუუმური პუმპა	Ვაკუუმური გამჭვირველი მასლის გაფილტრების საშუალებით
Ვაკუუმის დონე	Მაქსიმუმ 5Pa
Ვაკუუმის კონფიგურაცია	1. ვაკუუმის პუმპა 2. ელექტრო ვალვი
Გადასაჭრის სიჩქარის მართვა	Ვაკუუმური პუმპის გამოსატუმბად სიჩქარე შეიძლება დაყენდეს მთავარი კომპიუტერის პროგრამული უზრუნველყოფით
Პნევმატური სისტემა
Პროცესური გაზი	N2, N2/H2 (95%/5%), HCOOH
Პირველი გაზის გზა	Აზოტი/აზოტ-ჰიდროგენის მიშენება (95%/5%)
Მეორე გაზის გზა	HCOOH
Გარმოსახალი და გამყარების სისტემა
Გათბობის მეთოდი	Რადიაციული გარმოსახალი, კონტაქტული კონდუქცია, გარმოსახალის სიჩქარე 150℃/min
Გაგრილების მეთოდი	Კონტაქტული გამყარება, მაქსიმალური გამყარების სიჩქარე 120℃/min
Გარმოსახალის მასალა	სპილენძის შენადნობი, თბილოგამტარობა: ≥200 ვტ/მ·°ც
Გარმოსახალის ზომა	240*210mm
Გარმოსახალის აპარატურა	Გახურების მოწყობილობა: გამოიყენება ვაკუუმური გახურების მილი; ტემპერატურა იკრიბება სიემენსის PLC მოდულით, ხოლო PID კონტროლი ხორციელდება მთავარი კომპიუტერის მეშვეობით (Advantech).
Ტემპერატურის დიაპაზონი	Მაქს. 400°ც
Ძალის მოთხოვნები	380V, 50/60HZ სამკონტაქტიანი, მაქსიმუმ 40A
Კონტროლის სისტემა	Siemens PLC + IPC
Აპარატურის ძალა
Გაგრილებელი სითხე	Ანტიგელი ან დისტილირებული წყალი ≤20℃
Წნევა:	0.2～0.4Mpa
გამყის სიჩქარე	>100L/мин
Წყალის ტანკის მოცულობა	≥60L
Შესავალის წყალის ტემპერატურა	≤20℃
Ჰავას წყარო	0.4MPa≤ ჰაერის წნევა ≤0.7MPa
Ძაბვის მომარაგების ბლოკი	ერთფაზიანი სამხრის სისტემა 220V, 50Hz
Ვოლტაჟის განსხვავების დიაპაზონი	ერთფაზიანი 200～230V
Სიხშირის განსხვავების დიაპაზონი	50HZ±1HZ
Მოწყობილობის ღერ Gaussian	დაახლოებით 5 კვტ; გრუნდირების წინაღობა ≤4 ომი;

Სტანდარტული კონფიგურაცია

Ძირითადი სისტემა	შემოკლებული ვაკუუმური აუზით, ძირითადი ფრეიმი, კონტროლის ჰარდვერი და სოფტვერი
Აზოტის მაგისტრალი	Როგორც პროცესური gas-ისთვის შეიძლება იყენებოდეს აზოტი ან აზოტი/ჰიდროგენის მიღება
Ფორმიკ მჟავი მაგისტრალი	Formic acid-ის ჩატარება process chamber-ში აზოტის გამოყენებით
Წყალის გამყარების მაგისტრალი	верхнего чехла, нижней полости и нагревательной пластины გამყარება
Წყლის გამაგრილებელი	Გამოსახატი წყალის გამყარების წნევის მუშაობა აპარატში
Ვაკუუმური პუმპა	Ვაკუუმური გადაჭრივი სისტემა მასლის ფილტრაციით

Operational Conditions

Температура

10~35℃

Ურთიერთობრივი ტენიანობა

≤80%

Მოწყობილობის გარშემო გარემო სუფთა და მოწესრიგებულია, ჰაერი სუფთაა და არ უნდა იყოს

საელექტრო მოწყობილობებისა და სხვა ლითონის ზედაპირების კოროზიის ან

ლითონებს შორის გამტარობის გამოწვევი მტვერი ან აირი.

Საწყისი გვერდი

Ჩვენ შესახებ

MH აპარატურა

Გამოყენება

Სხვა ქალაქის მომხმარებლები

Ვიდეო

Დააკონტაქტეთ ჩვენ

MDVES200 ვაკუუმური ევტექტიკური რეფლოუ საყურადღებო ღერძის ღერძი

Მახასიათებლები:

Მეტი პროდუქტი