Taglio laser invisibile, come soluzione per il taglio laser di wafer, evita efficacemente i problemi legati al taglio con la ruota abrasiva. Il taglio laser invisibile viene realizzato plasmando un singolo impulso del laser a impulsi attraverso mezzi ottici, consentendogli di passare attraverso la superficie del materiale e focalizzarsi all'interno del materiale. Nell'area focale, la densità di energia è alta, formando un effetto di assorbimento non lineare multiphotonico che modifica il materiale creando crepe. Ogni impulso laser agisce a distanza uguale, formando danni equidistanti che creano un livello modificato all'interno del materiale. Nella posizione del livello modificato, i legami molecolari del materiale si rompono e le connessioni del materiale diventano fragili e facili da separare. Dopo il taglio, il prodotto viene completamente separato allungando il film portante, creando spazi tra i chip. Questo metodo di lavorazione evita i danni causati dal contatto meccanico diretto e dal lavaggio con acqua pura. Attualmente, la tecnologia di taglio laser invisibile può essere applicata a wafer in zaffiro/vetro/silicio e vari wafer di semiconduttori compositi.