Introduzione:
Lo strumento per deposizione mediante sputtering magnetron a singolo bersaglio è un'apparecchiatura per deposizione mediante sputtering magnetron economica, sviluppata autonomamente dalla nostra azienda. Grazie a un design compatto, raggiunge un equilibrio ottimale tra ingombro e prestazioni, con un aspetto estetico accattivante e funzionalità complete. L’intera macchina è controllata tramite touchscreen, dotato di un programma di deposizione a un solo tocco integrato, semplice e intuitivo da utilizzare, rendendola l’apparecchiatura ideale per la preparazione di film sottili in laboratorio. Il bersaglio singolo è un bersaglio a forte campo magnetico e l’alimentatore è una sorgente di tensione continua da 1500 W, adatta alla preparazione di film metallici. Questo prodotto può essere equipaggiato con un computer industriale tutto-in-uno per il controllo del sistema. Il software del computer consente di gestire la maggior parte delle funzioni, tra cui il controllo del gruppo di pompe da vuoto e il controllo dell’alimentatore per lo sputtering, migliorando ulteriormente l’efficienza sperimentale.
Applicazione:
Può essere utilizzato per preparare film sottili ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film di lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, ecc.