Sottolineare
Introduzione: lo strumento per deposizione mediante sputtering magnetron a singolo bersaglio è un equipaggiamento per sputtering magnetron economico, sviluppato autonomamente dalla nostra azienda. Grazie a un design compatto, raggiunge un ottimale equilibrio tra ingombro e prestazioni, con un aspetto estetico accattivante e funzionalità complete. L’intera macchina è controllata tramite touchscreen e dispone di un programma di deposizione integrato con avvio a un solo tasto, semplice e intuitivo da utilizzare; rappresenta pertanto l’equipaggiamento ideale per la preparazione di film sottili in laboratorio. Il bersaglio singolo è un bersaglio a forte campo magnetico e l’alimentatore è una sorgente di tensione continua da 1500 W, adatta alla preparazione di film metallici. Questo prodotto può essere dotato di un computer industriale tutto-in-uno per il controllo del sistema. Il software per computer consente di gestire la maggior parte delle funzioni, tra cui il controllo del gruppo di pompe da vuoto e quello dell’alimentatore per sputtering, migliorando ulteriormente l’efficienza sperimentale.
Applicazione: può essere utilizzato per preparare film sottili ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, ecc.