Introduzione:
Lo strumento per deposizione mediante sputtering a magnetron a doppio bersaglio è uno strumento di deposizione specifico per laboratorio, sviluppato dalla nostra azienda, dotato di due posizioni per i bersagli. L’apparecchiatura è equipaggiata con un’alimentazione in corrente continua (DC) e un’alimentazione a radiofrequenza (RF). Rispetto allo sputtering al plasma convenzionale, lo sputtering a magnetron presenta i vantaggi di elevata energia e velocità, nonché di elevata velocità di deposizione ed è un tipico processo di sputtering ad alta velocità e bassa temperatura. Il bersaglio a magnetron è dotato di uno strato intermedio raffreddato ad acqua; il sistema di raffreddamento ad acqua riesce efficacemente a dissipare il calore, evitando l’accumulo termico sulla superficie del bersaglio e consentendo così una deposizione stabile a lungo termine mediante magnetron. Il portacampioni di questo modello adotta una configurazione alternata, con una barra di spinta a giunto magnetico sul lato sinistro, che permette di spostare il portacampioni verso sinistra e verso destra. L’intero apparecchio è controllato tramite un touchscreen, dotato di un programma integrato per la deposizione con un solo tasto, semplice e intuitivo da utilizzare, costituendo pertanto un’attrezzatura ideale per la preparazione di film sottili in laboratorio.
Applicazione:
Può essere utilizzato per preparare film sottili ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film di lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, ecc.