Macchina per il lucidato e la levigatura a precisione MDAM-CMP100/150, l'unità principale e tutte le parti di ricambio sono realizzate in materiali altamente resistenti alla corrosione. L'intera macchina è resistente alla corrosione, stabile, resistente all'usura e alla ruggine, adatta per la levigatura e il lucidato chimico-mecanico di vari materiali semiconduttori. L'area di lavoro è separata dall'area di controllo con display e viene controllata digitalmente tramite un sistema di controllo a schermo tactil. È controllata da CNC, dotata di funzionalità di archiviazione e recupero.
Il sistema del dispositivo ha una funzione di timer, che può funzionare in modo continuo per 10 ore e controllare la velocità del disco di lucidatura. Il pannello di controllo è posizionato al di fuori dell'area di lavoro per prevenire che la soluzione abrasiva schizzi sul pannello di controllo. Tutti i parametri della unità principale possono essere regolati sullo schermo a touch. I parametri del processo dell'unità hanno funzioni di archiviazione e recupero per garantire coerenza e ripetibilità del processo. Il campione di wafer è assorbito sulla superficie inferiore del supporto tramite pompa a vuoto, dotata di una pompa a vuoto senza olio, con funzione di prevenzione del risucchio indipendente.
Il sistema di rotazione orizzontale del campione di configurazione della fixture ha una funzione oscillante, con un intervallo di oscillazione regolabile tra 0-100%. L'ampiezza e la frequenza dell'oscillazione possono essere impostate con precisione tramite il pannello di controllo. La fixture è dotata di un sistema di guida indipendente per la rotazione, con un intervallo di velocità regolabile da 0 a 120 giri al minuto. Questo design funzionale garantisce un lucidato completo del campione durante il processo di grinding e lucidatura, migliorando notevolmente la capacità e l'efficienza del dispositivo.
La fixture è dotata di una tabella di monitoraggio digitale della spessore con un'accuratezza di monitoraggio di 1 μm. La pressione esercitata dalla fixture sul campione wafer è continuamente regolabile, con un intervallo di pressione compreso tra 0-3,5 kg e un'accuratezza di 2 g/cm², ed è equipaggiata con un dispositivo di misurazione della pressione.
Il movimento del disco di rettifica e lucidatura è controllato dal motore principale e la velocità del disco è regolabile da 0 a 120 giri al minuto. Questo ampio intervallo di regolazione della velocità garantisce efficacemente la velocità ottimale per la rettifica e la lucidatura di campioni realizzati in materiali di diversa durezza e dimensione, consentendo così il raggiungimento di parametri di processo più elevati.
La sostituzione dei dischi di smerigliatura e dei dischi di lucidatura è semplice e rapida, grazie a dischi integrati che consentono all’attrezzatura di passare rapidamente dalla fase di smerigliatura a quella di lucidatura, riducendo notevolmente i tempi di processo. Inoltre, il disco di smerigliatura è dotato di un blocco di ripristino del disco per garantire un’elevata planarità.