Sottolineare
Introduzione:
Il rivestitore a sputtering magnetron a doppio bersaglio è un rivestitore specifico per laboratorio sviluppato dalla nostra azienda. L'apparecchiatura può essere dotata di un'alimentazione in corrente continua (DC) e di un'alimentazione in radiofrequenza (RF), con potenza compresa tra 500 W e 1000 W. Rispetto allo sputtering al plasma convenzionale, lo sputtering magnetron presenta i vantaggi di elevata energia e velocità, elevata velocità di deposizione del film e ridotto aumento di temperatura del campione: si tratta quindi di una tipica tecnica di sputtering ad alta velocità e bassa temperatura. Il bersaglio magnetron è dotato di uno strato intermedio raffreddato ad acqua. Il sistema di raffreddamento ad acqua riesce a dissipare efficacemente il calore ed evita l’accumulo termico sulla superficie del bersaglio, consentendo così un funzionamento stabile e prolungato del processo di rivestimento magnetron. L’apparecchiatura è stata progettata in modo compatto per ottenere un equilibrio ottimale tra ingombro e prestazioni, con un aspetto estetico accattivante e funzionalità complete. L’intera macchina è controllata tramite un touchscreen, dotato di un programma integrato di rivestimento con un solo tasto, semplice ed intuitivo da utilizzare. Si tratta pertanto di un’attrezzatura ideale per la preparazione di film sottili in laboratorio.
Applicazione: può essere utilizzato per preparare film sottili ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, ecc.