Introduzione:
Questo equipaggiamento è composto principalmente da una camera a vuoto in acciaio inossidabile, un bersaglio per sputtering magnetron, un dispositivo per deposizione per evaporazione, un tavolo campioni per il posizionamento dei campioni, un gruppo di pompe a vuoto, uno strumento di misura della pressione del vuoto, un sistema di immissione d'aria e un sistema di controllo. L'unità principale dell'equipaggiamento è comandata tramite touchscreen e monitorata da un termoregolatore. La sua interfaccia digitale per i parametri e il funzionamento automatizzato offrono agli utenti un'eccellente piattaforma per la ricerca e lo sviluppo. La camera a vuoto adotta una configurazione con bersaglio posto nella parte inferiore, mentre il tavolo campioni dispone di funzioni di riscaldamento e rotazione, che consentono di ottenere un effetto di rivestimento più uniforme. Il sistema di acquisizione del vuoto dell'equipaggiamento impiega un gruppo di pompe a vuoto a due stadi: la pompa di prima stadio è una pompa meccanica ad alta velocità, che riduce efficacemente il tempo necessario per passare dalla pressione atmosferica al regime di basso vuoto; la pompa principale è una pompa molecolare a turbina, dotata di elevata velocità di pompaggio e di una più rapida acquisizione del vuoto. L'intero sistema di acquisizione del vuoto è quindi pulito e veloce.
Applicazione:
Può essere utilizzato per preparare film sottili ferroelettrici monostrato o multistrato, film conduttivi, film di lega, film semiconduttori, film ceramici, film dielettrici, film ottici, ecc.