struttura |
illustrare |
Esponendo il piano di lavoro |
Area di esposizione: piano di lavoro, area di posizionamento del substrato |
Sistema ottico |
Area di emissione laser |
Sistema di controllo ambientale |
Controlla la temperatura interna e la pressione positiva dell'apparecchio |
Sistema piattaforma |
Controlla il movimento della tavola di esposizione per completare l'operazione del percorso di esposizione |
Sistema di Controllo |
Sistema di controllo di tutto l'equipaggiamento |
N. |
Ambiente |
Richiedono |
1 |
Ambiente sorgente luminosa |
Luce gialla |
2 |
Temperatura |
22℃±2℃ |
3 |
Umidità |
50%±10% |
4 |
Pulizia |
1000 |
5 |
CDA |
0.6±0.1Mpa, 200LPM, aria secca e pulita |
6 |
Alimentatore |
220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; Il filo terra deve essere connesso a terra, |
7 |
Acqua di raffreddamento |
Temp.：10℃~ 20℃ Pressione：0.3MPa ~ 0.5MPa Flusso：20L/min Differenza di pressione：0.3MPa o più Calibro di connessione：Rc3/8 |
8 |
Sede |
livello：±3mm/3000mm vibrazione：VC-B Rotazione：750kg/㎡ |
10 |
Internet |
Una porta di rete |
11 |
Dimensione della macchina |
1300*1100*2100mm |
12 |
Peso del dispositivo |
1500kg |
N. |
Progetto |
Spec. |
Osservazione |
1 |
Risoluzione |
0.6um/oppure altra richiesta |
AZ703, AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Spessore del substrato |
0.2mm～4mm |
|
4 |
Precisione della griglia data |
60nm |
|
5 |
Overlay |
±500nm |
130mmx130mm |
6 |
Precisione di accoppiamento |
±200nm |
AZ703 |
7 |
Dimensione di esposizione MAX |
190X190mm |
|
8 |
Debito |
≥300mm2/min |
≤50mj/cm2; |
9 |
fonte di luce |
LD 375nm |
|
10 |
potenza luminosa |
6W |
|
11 |
Uniformità dell'energia |
≥95% |
|
12 |
durata della luce |
10000h |
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