Αυτόματος Εξοπλισμός Σύνδεσης Μικροτσίπ (Αυτόματη Ανέβασμα και Κατέβασμα)

360i 8 ιντσών Μηχάνημα Δέσμευσης Μικροτσίπ Τεχνικές Προδιαγραφές

Εργαστηριακή Πίνακας Στερεών Κρυστάλλων (Γραμμικό Μόνιμο)

Οπτικό σύστημα

Διαδρομή τραπεζιού εργασίας: 100 × 300 mm

ΚΑΜΕΡΑ

Ανάλυση: 1 μm

Οπτικός μεγενθυτικός φακός (πλακίδιο): από 0,7 έως 4,5 φορές
0.7~4.5

Ραχηλιακή εργαστήριο (Γραμμική Μονάδα)

Χρόνος κύκλου: 200 ms/τεμ.

Διαδρομή XY: 8" × 8"

Ο κύκλος δέσμευσης die διαρκεί λιγότερο από 250 χιλιοστά του δευτερολέπτου,
παραγωγική ικανότητα είναι μεγαλύτερη από 12k;
12K

Ανάλυση: 1 μm

Ακρίβεια τοποθέτησης wafer

Μονάδα φόρτωσης και εκφόρτωσης

Θέση της κοπίδας κόλλας στον άξονα x-y ±2 mil

Χρήση κενού για αυτόματη τροφοδοσία με αναρρόφηση

Ακρίβεια περιστροφής ±3°

Χρήση δοχείου-παραστατικού για εκφόρτωση

Πνευματική σύσφιξη πλάκας, εύρος ρύθμισης πλάτους βάσης 25–90 mm

Μονάδα διανομής

Απαιτήσεις εξοπλισμού

Χειρισμός με κλοπή + σύστημα θέρμανσης

Τάση: AC 220 V / 50 Hz

Το σετ βελόνας διανομής μπορεί να αντικαθίσταται με μία ή πολλαπλές βελόνες

Πηγή αέρα: ελάχιστη πίεση 6 bar

Πηγή κενού 700 mmHg (αντλία κενού)

Σύστημα PR

ΔΙΑΣΤΑΣΕΙΣ ΚΑΙ ΒΑΡΟΣ

Μέθοδος 256 επίπεδα γκρι

Βάρος 450 kg

Ανίχνευση: μελάνη/αποκόλληση/ραγισμένο chip

Διαστάσεις (Β x Π x Υ) 1200 × 900 × 1500 mm

Οθόνη 17" LCD

Ανάλυση οθόνης 1024 × 768

Λείπον chip

Αισθητήρας κενού

380i 12 ιντσών Μηχάνημα Δέσμευσης Μικροτσίπ Τεχνικές Προδιαγραφές

Εργαστηριακό τραπέζι στερέωσης (γραμμικό μόντουλ)

Εργαστηριακό τραπέζι στερέωσης (γραμμικό μόντουλ)

ΚΑΜΕΡΑ

Διαδρομή εργαστηριακού τραπεζιού: 100 × 300 mm

Διαδρομή εργαστηριακού τραπεζιού: 100 × 300 mm

Οπτική μεγέθυνση (κρυσταλλικό στοιχείο): 0,7× έως 4,5×

Ανάλυση: 1 μm

Ανάλυση: 1 μm

Εργαστηριακό τραπέζι φλίτζανων (γραμμικό μόντουλ)

Εργαστηριακό τραπέζι φλίτζανων (γραμμικό μόντουλ)

Η περίοδος στερέωσης είναι μικρότερη των 250 χιλιοστών του δευτερολέπτου και η παραγωγικότητα υπερβαίνει τα 12.000 τεμάχια

Διαδρομή XY: 12″ × 12″

Διαδρομή XY: 12″ × 12″

Ανάλυση: 1 μm

Ανάλυση: 1 μm

Ακρίβεια τοποθέτησης wafer

Ακρίβεια τοποθέτησης wafer

Αυτόματη μέθοδος τροφοδοσίας με χρήση κενού και προσκολλητικών δίσκων

Ακρίβεια θέσης κόλλας x-y ±2 mil

Ακρίβεια περιστροφής ±3°

Ακρίβεια θέσης κόλλας x-y ±2 mil

Ακρίβεια περιστροφής ±3°

Χρησιμοποιείται δοχείο υλικού τύπου κουτιού για τη συλλογή υλικού κατά την κοπή

Χρησιμοποιούνται πνευματικά πιεστικά πλακίδια στερέωσης, ενώ το εύρος ρύθμισης του πλάτους της βάσης είναι 25–90 mm

Μονάδα διανομής κόλλας

Μονάδα διανομής κόλλας

Χρήση μονάδας διανομής κόλλας με εκκρεμές βραχίονα και σύστημα θέρμανσης

Χρήση μονάδας διανομής κόλλας με εκκρεμές βραχίονα και σύστημα θέρμανσης

Η ομάδα βελόνων διανομής κόλλας μπορεί να αντικαθίσταται με μονή ή πολλαπλές βελόνες

Η ομάδα βελόνων διανομής κόλλας μπορεί να αντικαθίσταται με μονή ή πολλαπλές βελόνες

Σύστημα PR

Σύστημα PR

Μέθοδος: 256 επίπεδα γκρι

Μέθοδος: 256 επίπεδα γκρι

Οθόνη 17"

Οθόνη 17"

Ανάλυση οθόνης: 1024×768

Ανάλυση οθόνης: 1024×768