EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Introduktion: Instrumentet til magnetron-sputterbelægning med dobbeltmål er et laboratorie-specifikt belægningsinstrument med to målpositioner, som vores virksomhed har udviklet. Udstyret er udstyret med en jævnstrømskraftforsyning og en radiofrekvenskraftforsyning. I forhold til almindelig plasma-sputtering har magnetron-sputtering fordelene ved høj energi og høj hastighed samt en høj belægningshastighed og er en typisk højhastigheds-lavtemperatur-sputtering. Magnetrontargetet er udstyret med en vandkølet mellemlag. Vandleveren kan effektivt fjerne varmen og undgå varmeophobning på targetets overflade, således at magnetron-belægningen kan fungere stabilt i længere tid. Prøvestadiet på denne model anvender en frem-og-tilbage-gående konstruktion med en magnetisk koblingsstang på venstre side, som kan skubbe prøvestadiet til venstre og højre. Hele maskinen styres via en touchskærm med en indbygget én-knaps-belægningsprogram, hvilket gør betjeningen simpel og let, og det er dermed et ideelt udstyr til laboratoriepræparering af tynde film.
Anvendelse: Kan bruges til fremstilling af enkeltlag eller flerlags ferroelektriske tyndfilm, ledende film, legeringsfilm, halvlederfilm, keramiske film, dielektriske film, optiske film mv.
