Introduktion:
Instrumentet til magnetron-sputterbelægning med dobbeltmål er et laboratorie-specifikt belægningsinstrument med to målpositioner, udviklet af vores virksomhed. Udstyret er udstyret med en jævnstrømsforsyning og en radiofrekvensforsyning. I forhold til almindelig plasma-sputtering har magnetron-sputtering fordelene ved høj energi og høj hastighed samt en høj belægningshastighed og er en typisk hurtig lavtemperatur-sputtering. Magnetrontarget er udstyret med en vandkølet mellem-lag. Vandleveren kan effektivt fjerne varmen og undgå varmeophobning på targetoverfladen, således at magnetron-belægningen kan fungere stabil over en længere periode. Prøvestadiet på denne model anvender en frem-og-tilbage-konstruktion med en magnetisk koblingsstang på venstre side, som kan skubbe prøvestadiet frem og tilbage. Hele maskinen styres via en touchskærm med en indbygget én-knaps-belægningsprogram, hvilket gør betjeningen simpel og let, og det er derfor et ideelt udstyr til laboratorietilberedelse af tynde film.
Anvendelsesområde:
Kan bruges til fremstilling af enkeltlagige eller flerlagige ferroelektriske tyndfilm, ledende film, legeringsfilm, halvlederfilm, keramiske film, dielektriske film, optiske film mv.