Introduktion:
Denne udstyr består hovedsageligt af en vakuumkammer af rustfrit stål, et magnetron-sputtermål, en fordampningsbelægningsenhed, et prøvebord til placering af prøver, en vakuum-pumpeenhed, en vakuummålemanometer, et lufttilførselssystem og et styresystem. Hovedenheden af udstyret betjenes via en touchskærm og overvåges af en temperaturregulator. Dens digitale parametergrænseflade og automatiserede drift giver brugerne en fremragende forsknings- og udviklingsplatform. Vakuumkammeret har en bundmonteret målkonstruktion, og prøvebordet har funktioner til opvarmning og rotation, hvilket sikrer en mere ensartet belægningsvirkning. Vakuumopnåelsessystemet for udstyret anvender en totrins vakuum-pumpegruppe. Den første trin-pumpe er en højhastighedsmechanisk pumpe, som effektivt forkorter tiden fra normalt tryk til lavt vakuum. Hovedpumpen er en turbo-molekylær pumpe med høj pumpehastighed og hurtigere vakuumopnåelse. Det samlede vakuumopnåelsessystem er rent og hurtigt.
Anvendelsesområde:
Kan bruges til fremstilling af enkeltlagige eller flerlagige ferroelektriske tyndfilm, ledende film, legeringsfilm, halvlederfilm, keramiske film, dielektriske film, optiske film mv.