EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Introduktion: Dette udstyr består hovedsageligt af en vakuumkammer af rustfrit stål, et magnetron-sputtermål, en fordampningsbelægningsenhed, et prøvebord til placering af prøver, en vakuum-pumpeenhed, en vakuummåleinstrument, et lufttilførselssystem og et styresystem. Hovedenheden af udstyret betjenes via en touchscreen og overvåges af en temperaturregulator. Dets digitale parametergrænseflade og automatiserede drift giver brugerne en fremragende forsknings- og udviklingsplatform. Vakuumkammeret har en undersiden-mål-konstruktion, og prøvebordet har funktioner til opvarmning og rotation, hvilket sikrer en mere ensartet belægningsvirkning. Vakuumopnåelsessystemet for udstyret anvender en totrins-vakuum-pumpegruppe. Den første trin-pumpe er en højhastigheds-mekanisk pumpe, som effektivt forkorter tiden fra normalt tryk til lavt vakuum. Den primære pumpe er en turbo-molekylær pumpe med høj pumpehastighed og hurtigere vakuumopnåelse. Det samlede vakuumopnåelsessystem er rent og hurtigt.
Anvendelse: Kan bruges til fremstilling af enkeltlag eller flerlags ferroelektriske tyndfilm, ledende film, legeringsfilm, halvlederfilm, keramiske film, dielektriske film, optiske film mv.
