Den består af en ionstrømforsyning, et vakuumssystem, et gasfyldningssystem, et automatisk styresystem og andre dele. Grundprincippet for virkemåden er, at plasmaet i vakuum kan ionisere gassen på en kontrolleret og kvalitativ måde. Vakuum-pumpen anvendes til at tømme arbejdsrummet for luft, så der opnås et vakuum på 10–40 Pa, hvorefter gassen ioniseres under påvirkning af en højfrekvensgenerator og danner plasma (den fjerde tilstand af stof). Et bemærkelsesværdigt træk ved denne type glødentladning er dens høje ensartethed; afhængigt af den anvendte gas udsender den farvet synlig lys fra blåt til dybt lilla. Temperaturstigningen under materialet behandling er tæt på stuetemperatur. Disse meget reaktive partikler interagerer med den behandlede overflade for at opnå forskellige overflademodifikationer, såsom øget overfladehydrofilicitet, vandafvisning, lav friktion, høj rengøringskapacitet, aktivering og ætsning.
Fordele ved plasma-behandling: 1. Miljøvenlig teknologi: Plasma-reaktionsprocessen er en gas-fast-fase-koherent reaktion, der ikke forbruger vandressourcer, ikke kræver tilsætning af kemikalier og ikke forurener miljøet. 2. Alsiddelighed: Uanset typen af underlag, der skal behandles, kan det behandles – f.eks. metaller, halvledere, oxider og de fleste polymermaterialer kan behandles effektivt. 3. Lav temperatur: Næsten ved stuetemperatur, især velegnet til polymermaterialer, længere opbevaringstid og højere overfladespænding end ved korona- og flammebehandling. 4. Stærk funktionalitet: Påvirker kun den yderste overflade af polymermaterialet (10–1000 Å), hvilket kan give ét eller flere nye funktioner uden at ændre materialets egne egenskaber. 5. Lav omkostning: Udstyret er simpelt, nemt at betjene og vedligeholde samt kan køres kontinuerligt. Ofte kan få flasker gas erstatte flere tusinde kilogram rengøringsvæske, så rengøringsomkostningerne bliver langt lavere end ved våd rengøring. 6. Kontrollerbar proces i hele processen
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA



























