Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Získat nabídku

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Domovská stránka
O nás
Výrobní Zařízení
Video s případem
Řešení
Uživatelé Z Vládních Států
Kontaktujte nás
Domů> PR strip RTP USC
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious
  • Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious

Stroj na odebírání fotorezistu plazmou z polovodičových destiček Serious

Získejte bezplatnou nabídku
Popis produktu

BATCH PLASMA Stroj na odebrání fotorezistu z polovodičového vodíku

Nízká pracovní teplota a může udržet plazmu při vysokém tlaku
DESCUM Čištění vodíku Mokré odebrání fotorezistu Odstraňování povrchových reziduí Odstraňování fotorezistu po vystavení a vyvinutí
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Specifikace
Plazmový zdroj
RF
mikrovlnná trouba
Výkon
1000W
1250 W
Obor použití
4~8 inch
4~8寸
Počet jednotlivých zpracovávaných plátků
4~6 palce=50 kusů\/8 palců=25 kusů
4~6 palce=50 kusů\/8 palců=25 kusů
Rozměry vnějšího vzhledu
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Systémové řízení
PC
PC
Úroveň automatizace
AUTOMOBIL
AUTOMOBIL
Výrobní závod
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Podrobnosti o produktu
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Balení a dodání
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Profil společnosti
16 let zkušeností s vývozem zařízení! Můžeme vám nabídnout kompletní řešení pro procesy a zařízení v polovodičovém průmyslu na předním i zadním konci!
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Další produkty

Dotaz

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Zásady ochrany soukromí

Dotaz E-mail Whatsapp WeChat
TOP
×

Kontaktujte nás