Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Získat nabídku

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Domovská stránka
Informace o nás
Výrobní Zařízení
Řešení
Uživatelé Z Vládních Států
Video
Kontaktujte nás
Domů> Odstranění PR RTP USC
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu
  • Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu

Polovodičové vločky Etching SiC RIE Reaktivní iontové etching Plazmový stroj pro odstraňování fotorezistu

Získejte bezplatnou cenovou nabídku
Popis výrobku

RIE Plasma stroj pro odebrání fotorezistu

RIE Plasma stroj pro odebrání fotorezistu je vhodný pro etching karbidu křemíku, odstraňování povrchových zbytků, etching oxidu nebo nitridu křemíku atd. Kamara je vhodná pro vzorky o průměru 4-8 palců
Etching křemíkuuhlíku
Čištění povrchu po etchingu
DESCUM
Tvrdá maskovací vrstva, suché odstranění
Etching křemenného oxidu nebo křemenného nitridu
Odstranění optického rezistu mezi médii
Odstraňování nánosů na povrchu
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Specifikace
Plazmový zdroj
RF
Napájení
ICP
_
BIAS
1000W(option)
Obor použití
4~8 inch
Počet jednotlivých zpracovávaných plátků
1
Rozměry vnějšího vzhledu
850mmx900mmx1850mm
Systémové řízení
PLC
Úroveň automatizace
Příručka
To výrobně
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Balení a dodání
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Společenský profil
16 let zkušeností s exportem zařízení! Můžeme Vám nabídnout kompletní řešení pro procesy a vybavení na přední straně polovodičů!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

Více produktů

Dotaz

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Všechna práva vyhrazena

Zásady ochrany osobních údajů

Dotaz Email WhatsApp WeChat
Nahoru
×

KONTAKT