Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Získat nabídku

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Domovská stránka
Informace o nás
Výrobní Zařízení
Řešení
Uživatelé Z Vládních Států
Video
Kontaktujte nás
Domů> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj
  • MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj
  • MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj
  • MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj

MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj

Model: MDICP-5000F

Získejte bezplatnou cenovou nabídku
MDICP-5000F Zcela automatický ICP etching přístroj
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory
MDICP-5000F Fully Automatic ICP Etching Machine / Semiconductor equipment Inductively Coupled Plasma factory

Executive Summary:

Zařízení je dvoukomorovým vakuum systémem. Jedna komora je inkubační vzorkovací komora a druhá je etčící komora. Vakuum zámek je nainstalován mezi inkubační vzorkovací komorou a etčící komorou a inkubační vzorkování je přepravováno manipulátorem.
Výbava se hlavně skládá z vakuumového systému, plynového obvodu, elektrického systému, řídícího systému, chladiče, mechanismu na předávání a brání filmu, alarmového systému atd.

Vakuový systém:

Systém se skládá z molekulového pumpu s výtěkovou rychlostí 600 L/s + importované vakuumové suché pumpy s výtěkovou rychlostí L/s pro čerpaní gravurační komory do vysokého vakua. Mezi molekulovou pumpou a gravurační komorou je nainstalovaná elektrodynamická regulační ventil. Importovaná suchá puma slouží jako předpumpa pro gravurační komoru a jako předpumpa pro molekulovou pumpu. Používá se také další mechanická puma s výtěkovou rychlostí L/s pro čerpaní vzorkové komory. Pro spojení mezi mechanickou pumpou, vakuumovou komorou a molekulovou pumpou se používají ocelové vlnité trubky a je instalovaný elektromagnetický pneumatický blokovací ventil.

Systém konstantního tlakového řízení

Výbava je vybavena systémem řízení konstantního tlaku na výstupu a v potrubí na odsávání vzduchu je nainstalované elektricky regulované kohouty. Přes měření filmového manometru (dodávané součásti) se ovládá regulovaný kohout tak, aby dosáhl konstantního tlaku v vakuumové komoře, čímž se zvyšuje stabilita procesu.

Systém konstantního tlakového řízení

Výbava je vybavena systémem řízení konstantního tlaku na výstupu a v potrubí na odsávání vzduchu je nainstalované elektricky regulované kohouty. Přes měření filmového manometru (dodávané součásti) se ovládá regulovaný kohout tak, aby dosáhl konstantního tlaku v vakuumové komoře, čímž se zvyšuje stabilita procesu.

Plynová soustava

Dvě sady RF napájecí jednotky s automatickým párem.

Systém poplachu

Bezpečnostní požadavky pro zařízení.
Specifikace
Jméno
Spc
ZNAČKA
Číslo/ sada
Poznámka
Erozní komora, odsávací potrubí, pozorovací okno, rezervované rozhraní atd.
Standard
JSWN
1
Protikorozní
Rám, elektřinový šatel, uzavírací materiály, standardní součásti atd.
Standard
JSWN
1
Systém zvedání víka etčovací komory
Standard
JSWN
1
Protikorozní
Etčovací elektroda a systém chlazení
Standard
JSWN
1
Protikorozní
Molekulární pumpa (súživost 600 L/s)
FF620/150
KYKY
1
Protikorozní
Vstupní suchá pumpa (súživost 9 L/s)
XDS-35I
Edwards
1
Protikorozní
Mechanická pumpa (súživost 9 L/s)
TRP-36
BWVAC
1
Elektrická regulovací ventil s klapkou
DCQ-150
JSWN
1
Protikorozní
Pneumatický membránový uzavírací ventil
KF40
JSWN
3
Protikorozní
Filmová měřidla
KF16
INFICON
1
Protikorozní
Regulátor hmotnostního průtoku
D07
Sevenstar
4
Protikorozní
Pneumatická membránová klapa
1/4" VCR
-
4
Protikorozní
Ocelová trubka, spojnice trubky atd.
1/4" VCR
-
4
Protikorozní
RF zdroj napájení / automatické zařízení pro párování
-
Čína (Volitelné CROWN1310)
1
RF zdroj napájení / automatické zařízení pro párování
-
Čína (Volitelné CROWN1310)
1
Složený vakuumový manometr
ZDF
RB
1
IPC
2U
Čína
1
LCD dotyková obrazovka
17 palců.
Čína
1
Systém plc řízení
S7-200
SIEMENS
1
Řídící systém elektrického pohonu
Standard
JSWN
1
Detekce a systém potrubí pro chladičovou vodu
Standard
JSWN
1
Detekce a systém potrubí pro kompresní vzduch
Standard
JSWN
1
Stroj na cyklické chlazení vody
HX
Čína
1
Injekční komora pro etching
Standard
JSWN
1
Vakuová zámka
SMC
SMC
1
Řídící systém manipulátoru
SMC
SMC
1

Technický parametr pošty

1. Limit vakuu: Etching komora 9.0×10-5Pa (vnitřní vlhkost≤55%)
Vzorkovací komora pro injekci 6.0×10-1Pa
2. Materiál pro etching: materiál III, V, Si, SiO2 atd.
3. Rychlost etování: ~ 1μ/min
4. Rovnoměrnost etování: ≤±5％(v rozsahu φ125mm)
6. Velikost elektrodu: φ200mm

Často kladené otázky

1. O ceně:

Všechny naše ceny jsou konkurenceschopné a vyjednávatelné. Cena se liší v závislosti na konfiguraci a složitosti přizpůsobení vašeho zařízení.

 

2. O vzorku:

Můžeme vám poskytnout služby pro výrobu vzorků, ale můžete zaplatit nějaké poplatky.

 

3. O platbě:

Po potvrzení plánu musíte nejprve zaplatit úvodní platební splátku a továrna začne připravovat zboží. Po připraveném zařízení a po zaplacení zbytku ho odesíláme.

 

4. O dodávce:

Po dokončení výroby zařízení vám pošleme akceptační video a můžete také přijít na místo pro kontrolu zařízení.

 

5. Instalace a ladění:

Po příjezdu zařízení do vaší továrny můžeme vydat inženýry na instalaci a ladění zařízení. Za tuto službu vám poskytneme samostatné cenové nabídky.

 

6. O záruce:

Naše zařízení má záruku 12 měsíců. Po skončení období záruky, pokud je nějaká součást poškozena a je třeba ji nahradit, účtuji pouze cenu náhrady.

 

7. Záruční a pozáruční servis:

Všechny stroje mají záruční dobu více než jeden rok. Naši techničtí inženýři jsou vždy online a mohou vám poskytnout služby týkající se instalace, uvedení do provozu a údržby zařízení. Pro speciální a velké zařízení můžeme poskytnout služby instalace a uvedení do provozu přímo na místě.

Více produktů

Dotaz

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Všechna práva vyhrazena

Zásady ochrany soukromí

Dotaz Email WhatsApp WeChat
Nahoru
×

KONTAKTUJTE NÁS