Plazmová povrchová úpravna se širokou šířkou zpracování

Širokospektrální střídavý plazmový čistič využívá napájecí zdroj k ionizaci plynu do plazmového stavu. Toto plazma působí na povrch výrobku, odstraňuje nečistoty, zvyšuje povrchovou aktivitu a zlepšuje lepivost. Plazmové čištění je nová, ekologicky šetrná, účinná a stabilní metoda povrchové úpravy.
Lineární plazmové generátory jsou vhodné pro různé omezené prostory a lze je přizpůsobit šířce výrobku, čímž umožňují nepřetržitou výrobu.
Standardní teplota zpracování je < 45 °C. Izolační materiál na vnější vrstvě vysokonapěťové elektrody (HV) dále snižuje teplotu zpracování plazmových zařízení širokého formátu. Zařízení lze přizpůsobit šířce výrobku a může být přímo nainstalováno do výrobní linky, čímž se výrazně zvyšuje účinnost zpracování. Díky jedinečné konstrukci generování plazmy je standardní teplota zpracování < 45 °C, což zajišťuje rovnoměrný a stabilní provoz. Patentovaný středofrekvenční digitální zdroj napájení zaručuje rovnoměrné plazma a stabilní zpracování.
Použití: 1. Průmysl 3C: lepení TP, aktivace povrchu panelu a čištění povrchu před nanesením ITO vrstvy, účinné odstraňování organických látek a nečistot z povrchu za účelem zlepšení přilnavosti povrchu. 2. Elektronický průmysl: čištění organických látek a aktivace povrchu flexibilních tištěných spojovacích desek (FPC) a tištěných spojovacích desek (PCB) za účelem zlepšení smáčivosti povrchu a zvýšení pevnosti pájení a lepení. 3. Polovodičový průmysl: spojování integrovaných obalů, předúprava pro drátové spojování, keramické obaly, aktivace povrchu BGA/LED, zlepšení přiléhavosti obalů a zvyšování výtěžnosti. 4. Plastový průmysl: modifikace povrchu, drážkování povrchu, zlepšení přilnavosti povrchu a zvyšování kvality lepení a potisku. 5. Průmysl skleněných krytů: předúprava pro nanesení AF vrstvy, odstranění přebytků AF/AS vrstvy při přetékání, potisk inkoustem, aktivace struktury povrchu materiálu, odstraňování elektrostatického náboje, prachu a olejových skvrn, zlepšení hydrofilicity.