Điều đầu tiên chúng tôi làm là phủ lên bề mặt của vật liệu nền một lớp vật liệu phản ứng với ánh sáng đặc biệt. Đây là vật liệu nhạy sáng, đóng vai trò quan trọng trong quá trình này. Sau đó, chúng tôi sử dụng một tấm mặt nạ có họa tiết trên bề mặt và đặt nó phía trên lớp đó. Tấm mặt nạ hoạt động như một khuôn dập với các lỗ truyền ánh sáng qua các vị trí chọn lọc. Tiếp theo, chúng tôi chiếu mẫu trên mặt nạ vào ánh sáng UV mà mắt thường không thể nhìn thấy. Ánh sáng này tạo ra hình ảnh trên vật liệu nhạy sáng, tương tự như cách ánh sáng mặt trời có thể tạo ra bóng khi bạn chiếu nó qua một hình cắt. Bước cuối cùng bao gồm việc ngâm chất nền trong một loại dung dịch được gọi là dung môi phát triển. Quá trình này loại bỏ phần lớp nhạy sáng đã tiếp xúc với ánh sáng và hiện ra một họa tiết trên vật liệu nền.
TRONG Máy hàn dây một trong những phần lớn nhất cần được kiểm soát là các sai lầm xảy ra trong ba bước chính và điều này rất quan trọng để đạt được kết quả chính xác. Quy trình phủ a) Việc phủ bao gồm việc phủ đều vật liệu cảm quang lên bề mặt vật liệu cơ bản. Nghĩa là, mỗi mảnh vật liệu cơ bản phải có cùng liều lượng thành phần đặc biệt. Nói cách khác, chúng ta thường sử dụng máy móc để đạt được bề mặt thẳng và phẳng hoàn hảo. Trong bước này, chúng ta kiểm tra chất lượng (không có vết lồi hay khuyết điểm trên bề mặt).
Dung dịch phát triển được sử dụng để loại bỏ phần vật liệu đã bị phơi sáng, tạo thành một mẫu trong bước 3; phát triển. Nhưng chúng ta vẫn có thể mắc sai lầm ở bước này. Chúng ta không muốn để vật liệu trong dung dịch quá lâu và nếu dung dịch quá mạnh, nó sẽ làm hỏng mẫu mà chúng ta đang cố gắng tạo ra. Vì vậy, chúng ta cần kiểm soát rất cẩn thận thời gian và nồng độ của dung dịch phát triển để đạt được kết quả tốt.
Lợi ích chính của Máy hàn dây là khả năng tạo hình các thành phần cực kỳ nhỏ. Điều này cho phép chúng ta sản xuất những bộ phận rất nhỏ nhưng hiệu suất cao. Phương pháp này cũng rất có lợi cho sản xuất hàng loạt; nó cho phép chúng ta sản xuất nhiều bộ phận trong một khoảng thời gian ngắn. Điều này đặc biệt quan trọng trong các ngành công nghiệp có nhu cầu cực kỳ cao về một loại bộ phận giống hệt nhau (như ngành công nghiệp sản xuất điện tử).
Mặt khác, cũng có một số nhược điểm. Chi phí cao của công nghệ quang lithography sử dụng mặt nạ về cả máy móc lẫn vật liệu được sử dụng là một trong những thách thức lớn nhất khi áp dụng phương pháp này. Các máy móc có thể cực kỳ đắt đỏ, và chúng ta cần các nguyên liệu thô chất lượng cao, mà cũng tốn rất nhiều chi phí. Ngoài ra, không thể tạo ra các đặc điểm nhỏ hơn, ví dụ như 10 nm với loại phương pháp này. Điều này có ý nghĩa quan trọng vì chúng ta thường xuyên theo đuổi việc xây dựng những thứ ngày càng nhỏ hơn và mạnh mẽ hơn. Hơn nữa, quá trình này rất dễ bị ô nhiễm nên phải thực hiện trong môi trường rất sạch (thường được gọi là phòng sạch). Yêu cầu này có thể làm cho mọi thứ trở nên phức tạp hơn và tốn kém hơn.
Trong các lĩnh vực từ điện tử đến y học, công nghệ quang khắc sử dụng mặt nạ dựa trên nghiên cứu và phát triển cơ bản. Việc áp dụng SU-8 là hoàn toàn cần thiết trong ngành công nghiệp điện tử để sản xuất các thiết bị vi điện tử như mạch tích hợp, cảm biến và màn hình. Việc tạo ra những cấu trúc này đã yêu cầu nhiều công cụ đặc biệt được chế tạo để thực hiện công việc này, với những ví dụ điển hình là hệ thống căn chỉnh mặt nạ EVG(R) và hệ thống gắn wafer EVG(R).
Ví dụ, trong nghiên cứu y học, quang lithography được sử dụng để xây dựng các kênh vi mô để phân tích chất lỏng cơ thể; công nghệ này là một phần của những gì được gọi là phòng thí nghiệm trên một con chip. Sử dụng công nghệ này, chất lỏng có thể được phân tích nhanh chóng và chính xác hơn để làm rõ hơn về sức khỏe của bệnh nhân. Việc sử dụng máy căn chỉnh mặt nạ trong quang lithography để chế tạo các hệ thống vi và nano fluidic cũng là khả thi. Nếu đúng, các hệ thống này sẽ tăng độ chính xác của liều lượng thuốc cho bệnh nhân, cải thiện hiệu quả và độ an toàn của các liệu pháp.
Bản quyền © Công ty TNHH Minder-Hightech Quảng Châu. Tất cả các quyền được bảo lưu.