Việc tạo ra vi điện tử bao gồm nhiều bước cần được thực hiện với sự thận trọng. Gắn kết wafer là một trong những bước quan trọng đó. Trong thực tế, gắn kết wafer là việc ghép hai vật liệu mỏng hoặc hai wafer theo thuật ngữ ngành lại với nhau. Điều quan trọng là bất kỳ nơi nào hai điểm tiếp xúc, chúng phải có đặc tính dính mạnh mẽ với nhau để quá trình này hoạt động hiệu quả. Đây là lúc kích hoạt bề mặt phát huy tác dụng, hỗ trợ quá trình gắn kết.
Kích hoạt bề mặt của wafer là một phương pháp cụ thể được áp dụng để giúp tăng khả năng bám dính hoặc độ dính trên wafer. Xử lý plasma, xử lý UV/bazon hoặc chức năng hóa học là một số phương pháp có thể được sử dụng để kích hoạt bề mặt. Các kỹ thuật này khác nhau và được dùng để làm cho bề mặt wafer phù hợp cho việc gắn kết.
Ngoài việc cải thiện chất lượng của thiết bị vi điện tử, chúng còn giúp các tấm wafer gắn kết với nhau tốt hơn, từ đó giảm khả năng xảy ra các vấn đề như bong tróc. Điều này sẽ giúp thiết bị hoạt động tốt hơn và bền hơn, cho thấy sự tăng cường độ bền cho bất kỳ thiết bị công nghệ mới nào mà nó được tích hợp vào.
Bên cạnh việc tăng cường sự gắn kết và chất lượng của thiết bị, chất kích hoạt bề mặt còn giúp làm sạch bề mặt của tấm wafer. Khi thực hiện quá trình kích hoạt trên bề mặt, bất kỳ loại bụi bẩn hoặc tạp chất không mong muốn nào cũng có thể được loại bỏ. Điều này sẽ dẫn đến một bề mặt phẳng và sạch hơn, từ đó có thể in các thành phần vi điện tử lên.
Cuối cùng, kích hoạt bề mặt có thể làm cho bề mặt của wafer trở nên mịn màng. Nếu chúng ta sử dụng keo để dính hai bề mặt lại với nhau thì nếu bề mặt quá thô hoặc lồi lõm, việc gắn kết đúng cách có thể gặp khó khăn. Một quy trình đánh bóng hoặc kích hoạt có thể được thực hiện để giảm thiểu độ thô trên bề mặt wafer, điều này cải thiện khả năng gắn kết và độ bền kết nối.
Có một số khái niệm cần xem xét khi nói đến khoa học về các kỹ thuật kích hoạt bề mặt wafer. Và một trong những khái niệm này là Năng lượng Bề mặt. Để tham khảo, Năng lượng bề mặt: lượng năng lượng được sử dụng để tạo ra một bề mặt mới. Khi hai bề mặt gặp nhau, chúng sẽ gắn kết dựa theo năng lượng bề mặt của chúng.
Những kỹ thuật kích hoạt bề mặt này về cơ bản cung cấp một lượng năng lượng cho tấm wafer, bằng cách tăng năng lượng bề mặt của nó. Điều này khiến việc gắn tấm wafer lên một bề mặt khác một cách chắc chắn trở nên dễ dàng hơn. Các phương pháp như xử lý plasma, xử lý UV/bazo và chức năng hóa hóa học đều tạo ra các điểm hoạt tính ở mức độ khác nhau, tăng năng lượng bề mặt của tấm wafer, điều này rất quan trọng cho quá trình gắn kết thành công.
Bản quyền © Công ty TNHH Minder-Hightech Quảng Châu. Tất cả các quyền được bảo lưu.