Giriş:
Tek hedefli manyetron sputtering kaplama cihazı, şirketimiz tarafından bağımsız olarak geliştirilen, maliyet etkin bir manyetron sputtering kaplama ekipmanıdır. Kompakt tasarım sonrası hacim ile performans arasında dengeli bir yapı sağlanmış, estetik görünüm ve tam fonksiyonellik kazandırılmıştır. Cihazın tamamı dokunmatik ekran ile kontrol edilir; dahili tek tuşla kaplama programı bulunur, kullanımı basit ve kolaydır ve ince film hazırlama amacıyla laboratuvarlarda ideal bir ekipmandır. Tek hedefli sistem güçlü manyetik bir hedeftir ve güç kaynağı 1500 W’lık bir DC güç kaynağıdır; bu nedenle metal filmlerin hazırlanmasında kullanılabilir. Bu ürün, sistemin kontrolü için entegre endüstriyel bilgisayar ile donatılabilir. Bilgisayar programı, vakum pompası grubunun kontrolü ve sputtering güç kaynağının kontrolü gibi çoğu işlevi gerçekleştirebilir; bu da deney verimliliğinizi daha da artırabilir.
Uygulama:
Tek veya çok katmanlı ferroelektrik ince filmler, iletken filmler, alaşım filmleri, yarı iletken filmleri, seramik filmleri, dielektrik filmleri, optik filmler vb. hazırlamak için kullanılabilir.