Önemli olan
Giriş:
Çift hedefli manyetron püskürtme kaplama cihazı, şirketimiz tarafından geliştirilen laboratuvar özel bir kaplama cihazıdır. Cihaz, 500 W ile 1000 W arası güç aralığına sahip bir DC güç kaynağı ve bir RF güç kaynağı ile donatılabilir. Sıradan plazma püskürtmeye kıyasla manyetron püskürtmenin yüksek enerji ve yüksek hız, yüksek kaplama oranı ile numune sıcaklığında düşük artış gibi avantajları vardır. Bu nedenle, manyetron püskürtme tipik bir yüksek hızlı ve düşük sıcaklıklı püskürtme yöntemidir. Manyetron hedefi, su soğutmalı bir ara katmanla donatılmıştır. Su soğutucusu, ısıyı etkili bir şekilde uzaklaştırarak hedef yüzeyinde ısı birikimini önler; böylece manyetron kaplama işlemi uzun süreli ve kararlı bir şekilde çalışabilir. Cihaz, hacim ile performans arasında denge kurulacak şekilde kompakt olarak tasarlanmıştır; estetik görünüme ve kapsamlı fonksiyonlara sahiptir. Tüm cihaz bir dokunmatik ekran ile kontrol edilir ve dahili tek tuşla kaplama programı içerir; bu da kullanımını basit ve kolay hale getirir. Laboratuvar ortamında ince filmler hazırlamak için ideal bir ekipmandır.
Uygulama: Tek veya çok katmanlı ferroelektrik ince filmler, iletken filmler, alaşım filmleri, yarı iletken filmler, seramik filmler, dielektrik filmler, optik filmler vb. hazırlanabilir.