Giriş:
Cihaz, yüksek vakumlu paslanmaz çelik kaviteyi korurken diğer mekanizmaları da basitleştirerek küçültülmüştür; bu da cihazın görünümünü masaüstü seviyesine sınırlamış ve kurulum alanına yönelik gereksinimleri büyük ölçüde azaltmıştır. Cihaz, bir DC güç kaynağı ile bir RF güç kaynağıyla donatılmıştır. DC hedef, metaller ve diğer iletken malzemelerin püskürtme (sputtering) işlemi için kullanılabilirken, RF güç kaynağı çeşitli metal olmayan malzemeler ile metal oksitlerinin püskürtme işlemi için kullanılabilir. Cihazın vakum sistemi, hızlı pompalama hızına, yüksek son vakum derecesine ve üstün vakum performansına sahip tamamen ithal edilmiş bir vakum pompası kullanır. Bu cihaz, kompakt bir yapıya, tam fonksiyonlara ve kullanımı kolay bir arayüze sahiptir; bu nedenle çeşitli kaplama testleri için oldukça uygundur.
Uygulama:
Metal ince filmlerin, elektronik alanların, optik alanların, özel seramiklerin vb. hazırlanmasında kullanılabilir. Laboratuvar ortamında SEM örnek hazırlama amacıyla da kullanılabilir.