Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Teklif Al

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Ana Sayfa
Hakkımızda
MH Ekipmanı
Çözüm
Yurtdışı Kullanıcılar
Video
Bize Ulaşın
Ana Sayfa> PR kaldırma RTP USC
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme

Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme

Ücretsiz Teklif Alın
Ürün Açıklaması

ICP Deneysel Plazma Fotoğraf direnci Kaldırma Makinesi

Polimer kaldırma, silikon oksit veya silikon karbür etching'i, etching sonrası yüzey temizliği
ASHING Polimer kaldırma DESCUM Kurutma ile sert maske tabakasının kaldırılması İyon yerleştirmeden sonra foto direncinin kaldırılması Medya arasında optik direncin kaldırılması BAW/SAW sürecinde foto direncinin kaldırılması Anti-yansız grafik film tabakasının kurutma temizliği Silis oksit veya silis nitrit etçilmesi Yüzey artığılarının kaldırılması Etçilme sonrası yüzey temizliği Silis karbür etçilmesi
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Speksiyasyon
Plazma kaynağı
RF+BIAS
Güç
1000W
1000W
600W
600W
Uygulanabilir kapsam
4-8 inç
Tek işlem dilim sayısı
one
Dış görünüş boyutları
1140mm x 1050mm x 1620mm
Sistem Kontrolü
Sanayi kontrol sistemi
Otomasyon Seviyesi
Manuel
Fabrika
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Paketleme ve Teslimat
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Şirket Profili
ekipman ihracatında 16 yıllık deneyim! Size tek noktadan Semi-Havada Ön Uç Süreçleri ve Ekipmanlar çözümü sunabiliriz!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Diğer Ürünler

Sorgu

Telif Hakkı © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Tüm Hakları Saklıdır

Gizlilik Politikası

Sorgu Email WhatsApp WeChat
En üst
×

İletişime Geçin