İyon güç kaynağından, vakum sisteminden, gaz doldurma sisteminden, otomatik kontrol sisteminden ve diğer parçalardan oluşur. Çalışma temel ilkesi, vakum ortamında plazmanın kontrollü ve kalitatif yöntemlerle gazi iyonize etmesidir. Vakum pompası, çalışma odasını 10–40 Pa’lık bir vakuma kadar boşaltmak için kullanılır; ardından yüksek frekanslı jeneratörün etkisiyle gaz iyonize edilir ve plazma (maddenin dördüncü hâli) oluşturulur. Bunun belirgin özelliği, bıçak benzeri parlak deşarjın yüksek düzgünlüğüdür; farklı gazlar mavi ile koyu mor arasında renkli görünür ışık yayarlar ve malzeme işleme sıcaklığı oda sıcaklığına yakındır. Bu yüksek reaktiviteye sahip parçacıklar, işlenen yüzeyle etkileşime girerek yüzey hidrofilikliği, su iticiliği, düşük sürtünme, yüksek temizlik, aktivasyon ve aşındırma gibi çeşitli yüzey modifikasyonları elde edilmesini sağlar.
Plazma Tedavisinin Avantajları: 1. Çevre koruma teknolojisi: Plazma etkileşimi süreci, su kaynaklarını tüketmeyen, kimyasal madde ilavesi gerektirmeyen ve çevreye zarar vermeyen bir gaz-katı fazı koheranslı reaksiyondur. 2. Çok yönlülük: İşlenecek alt tabaka türüne bakılmaksızın (örneğin metaller, yarı iletkenler, oksitler ve çoğu polimer malzeme) tümü iyi şekilde işlenebilir. 3. Düşük sıcaklık: Yaklaşık oda sıcaklığına yakın olup özellikle polimer malzemeler için uygundur; koruma süresi daha uzun ve koroña ile alev yöntemlerine kıyasla yüzey gerilimi daha yüksektir. 4. Güçlü fonksiyonellik: Sadece polimer malzemenin yüzeyinin çok ince tabakasını (10–1000 Å) etkiler; bu sayede malzemenin kendine özgü özelliklerini korurken bir veya daha fazla yeni fonksiyon kazandırabilir. 5. Düşük maliyet: Cihaz basit yapıdadır, kullanımı ve bakımı kolaydır ve sürekli çalıştırılabilir. Genellikle birkaç şişe gaz, binlerce kilogram temizleme sıvısının yerini alabilir; bu nedenle temizleme maliyeti nemli temizleme yöntemlerine kıyasla çok daha düşüktür. 6. Tüm süreç boyunca kontrol edilebilir işlem
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA



























