MDAM-CMP100\/150 makina para sa precision grinding at polishing, ang pangunahing unit at lahat ng spare parts ay gawa sa mga materyales na mababawas ang korosyon. Ang buong makina ay resistente sa korosyon, maaaring magbigay ng estabilidad, resistente sa pagpuputol, at hindi madadagul. Ito ay kinalamang gamit para sa chemical mechanical grinding at polishing ng iba't ibang semiconductor materials. Ang workspace ay hiwalay sa display control area at digital na kontrolado gamit ang isang touch screen control system. Ito ay CNC controlled, maaaring imbak, at maaaring balikan.
May timing function ang sistema ng device, na maaaring magtrabaho tulad ng 10 oras nang tuloy-tuloy at kontrolin ang bilis ng polishing disc. Nakakalagay ang control panel sa labas ng trabaho na lugar upang maiwasan ang pag-splash ng abrasive solution sa control panel. Maaaring ipaganda ang lahat ng mga parameter ng host sa touch screen. May storage at retrieval functions ang mga parameter ng proseso ng host upang siguruhing may konsistensya at mairepetir ang proseso. Ina-adsorb ang sample ng wafer sa ibaba ng surface ng fixture sa pamamagitan ng vacuum pumping, na may kasamang oil-free vacuum pump, at may independent anti reverse suction function.
Ang sistema ng pag-ikot ng horizontal na rotasyon sa halimbawa ng pagsasaayos ay may funktion ng swing, na may saklaw ng 0-100% na maaring ipagpalit. Ang amplitud at bilis ng frekwensya ng swing ay maaaring tiyak na itakda sa pamamagitan ng panel ng kontrol. Ang pagsasaayos ay may kabilangang sistema ng drive para sa rotasyon, na may maaring ipagpalit na saklaw ng bilis na 0-120rpm. Ang disenyo ng ganitong kabisa ay nagpapatakbo ng buong polishing ng halimbawa sa proseso ng paggrind at polishing, na nakakataas ng malaki sa kapasidad at epekibo ng aparato.
Ang pagsasaayos ay may lamesa ng monitoring ng digital na kalatayan na may katumpakan ng monitoring na 1 μ m. Ang presyon ng pagsasaayos sa halimbawa ng wafer ay tulad ng patuloy na maaring ipagpalit, na may saklaw ng presyon na 0-3.5kg at may katumpakan ng 2g/cm², at may kasamang aparato ng pag-uukol ng presyon.
Ang operasyon ng disc para sa pagpapahina at pagpapakinis ay kontrolado ng pangunahing drive, at maaaring i-adjust ang bilis ng disc mula 0 hanggang 120 revolutions per minute. Ang saklaw ng pagbabago ng bilis na ito ay epektibong nagtiyak ng bilis ng pagpapahina at pagpapakinis ng mga sample na may iba't ibang antas ng kahigpit at sukat ng materyales, kaya naman nakakamit ang mas mataas na mga indikador ng proseso.
Ang pagpapalit ng mga disc na panggiling at mga disc na pangpolish ay simple at mabilis, na may mga nakapaloob na disc na nagpapahintulot sa kagamitan na mabilis na maglipat mula sa proseso ng paggiling patungo sa proseso ng pagpolish, na lubhang binabawasan ang oras ng proseso. At ang disc na panggiling ay may kasamang bloke para sa pagkukumpuni ng disc upang matiyak na ang disc na panggiling ay may magandang patag na ibabaw.