Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Kumuha ng Quote

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Homepage
Tungkol Sa Amin
Kagamitan ng MH
Solusyon
Mga Gumagamit Sa Kabilang Dagat
Video
Makipag-ugnayan sa Amin
Bahay> PR removal RTP USC
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine
  • Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine

Linis na Semiconductor Wafer matapos ang Pag-eetch ICP Eksperimental na Plasma Alisin ang Photoresist Machine

Kumuha ng Libreng Quote
Paglalarawan ng Produkto

ICP Eksperimental na Plasma Photoresist Removal Machine

Polymer removal, silicon oxide o silicon carbide etching, pagsasabog sa ibabaw matapos ang etching
Alinsunod na pagtanggal ng Polymer DESCUM Pagtanggal ng hard mask layer sa pamamagitan ng Dy Method Pagtanggal ng Photoresistance matapos ang ion implantation Pagtanggal ng optical resistance sa pagitan ng media Pagtanggal ng Photoresistance sa proseso ng BAW/SAW Dy cleaning ng anti reflective graphic film layer Etching ng Silicon oxide o silicon nitride Pag-aalis ng residue sa ibabaw Surface cleaning matapos ang etching Etching ng Silicon carbide
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Espesipikasyon
Pinagmulan ng plasma
RF+BIAS
Kapangyarihan
1000W
1000W
600W
600W
Ambito ng paggamit
4-8 pulgada
Bilang ng slice na sinusubok ng isang beses
isa
Anyo sukat
1140mm x 1050mm x 1620mm
Kontrol ng sistema
Industrial Control System
Antas ng Automation
Manwal
Pabrika
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakete & Paghahatod
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Company Profile
16 taon ng karanasan sa eksport ng makinarya! Maaari naming iprovide sa iyo ang one-stop solution para sa Semiconductor Front End Processes at Equipment!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Higit pang mga Produkto

Inquiry

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Lahat ng Karapatan ay Nakalaan

Patakaran sa Pagkapribado

Inquiry Email WhatsApp WeChat
Nangunguna
×

Makipag-ugnayan