INQUIRY DESCUM pagtanggal ng photoresist ICP Dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist Machine , China INQUIRY DESCUM pagtanggal ng photoresist ICP Dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist Machine Manufacturers, Suppliers, Factory

Paglalarawan ng Produkto

ICP Dyaryo Plasma Photoresist Removal Machine

Ang ICP dyaryo plasma photoresist removal machine ay pangunahing ginagamit para sa pag-aalis ng mga polymer, ASHING, DESCUM, alisinan ng photoresist matapos ang ion implantation, at pag-aalis ng residue sa ibabaw. Ang kubeta aykop para sa 4-8 pulgadas na mga sample, may 1-2 piraso na pinroseso sa isang solong proseso.

ASHING
Pagtanggal ng Polymer
Diyos na pagtanggal ng hard mask layer
Pagtanggal ng photoresistance matapos ang ion implantation
Pagtanggal ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Panghihigpit nang hudyat ng antireflective coating film layer
Pagsalakay sa residue sa ibabaw
Paghuhusay ng ibabaw pagkatapos ng pagpaputol
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Espesipikasyon

Plasma			RF	RF
Kapangyarihan	ICP	1000W	1000W
Kapangyarihan		BIAS	600w(option)	600w(option)
Ambito ng paggamit			4~8 tsin	4~8 tsin
Bilang ng slice na sinusubok ng isang beses			1	2
Anyo sukat			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kontrol ng sistema			Industrial Control System	Industrial Control System
Antas ng Automation			awtomatiko	awtomatiko

Pabrika

Detalye ng produkto

Pakete & Paghahatod

Company Profile

16 taon ng karanasan sa eksport ng makinarya! Maaari naming iprovide sa iyo ang one-stop solution para sa Semiconductor Front End Processes at Equipment!